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本发明涉及一种激光照射方法以及激光照射装置。该激光照射方法包含：分析正被照射的激光且检测所述激光的第二峰值；以及根据所述所检测的第二峰值与参考峰值的比较和确定结果而控制是否将稀有气体和卤素气体中的至少任何一个供应到振荡所述激光的激光振荡器。...
该专利属于AP系统股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过AP系统股份有限公司授权不得商用。

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