用于校正激光脉冲的方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种校正激光脉冲的方法和用于校正激光脉冲的装置。校正激光脉冲的方法包含以下过程：测量个别激光脉冲，其中测量从多个激光光源射出且由每一个别衰减器进行强度调节的所述个别激光脉冲的峰值；控制每一衰减器的入射角，其中在所测量的个别激光脉冲的所述峰值处于预先设置的个别误差范围之外时调节指派给处于误差范围之外的激光光源的个别衰减器的所述入射角；以及重复所述测量所述个别激光脉冲的过程和所述控制个别衰减器的所述入射角的过程，直到所测量的个别激光脉冲的所述峰值处于预先设置的个别误差范围内为止。通过校正每一激光光源的脉冲波形的变化，可防止工艺中的缺陷。

【技术实现步骤摘要】
用于校正激光脉冲的方法和装置
本专利技术涉及用于校正激光脉冲的方法和装置，且更明确地说，涉及用于在将激光脉冲辐射到衬底时校正激光脉冲的能量强度的方法和装置。
技术介绍
因为在沉积薄膜后执行退火时由于衬底大小的增大而难以确保均匀性，所以存在许多替代方案，其中之一是使用激光脉冲的退火方法。三个主要因素可影响激光退火。三个因素包含：线束轮廓，其表示所辐射的激光束的线长度和均匀性；激光能量，其表示激光脉冲的能量强度；以及脉冲形状，其表示激光束的脉冲形状。这三个因素是可随激光脉冲的次数增加而变化的值。当这些因素具有超过参考范围的值时，退火工艺中的缺陷增加，大规模生产的操作时间减少，且因此存在限制在于，生产效率降低。从多个激光光源射出的激光脉冲经由衰减器和光学系统而辐射到衬底。然而，当使用利用两个或两个以上的激光光源以在所述激光光源之间互补能量的设施时，随着时间过去，在激光光源之间发生散射的变化，且因此存在限制在于，难以维持由初始激光光源的组合产生的脉冲的形状。为了解决这种限制，将相同的高电压供应到激光光源中的每一个，这具有限制在于，激光光源之间的散射的变化根据激光光源的特性而发生，且激光光源之间的输出能量的散射也取决于所使用的激光脉冲量的增大而变化。【专利文献】(专利文献0001)第10-2011-0070265号韩国专利公开。
技术实现思路
本专利技术提供校正从两个或两个以上激光光源发射而输出的激光脉冲的脉冲波形的变化的装置和方法。且，本专利技术通过控制其它外围装置而不是激光光源自身来校正激光脉冲的变化。根据一示范性实施例，一种校正激光脉冲的方法包含以下过程：测量个别激光脉冲，其中测量从多个激光光源射出(发射)且由每一个别衰减器进行强度调节的所述个别激光脉冲的峰值；控制每一衰减器的入射角，其中在所测量的个别激光脉冲的所述峰值处于预先设置的个别误差范围之外时调节指派给处于误差范围之外的激光光源的个别衰减器的所述入射角；以及重复所述测量所述个别激光脉冲的过程和所述控制个别衰减器的所述入射角的过程，直到所测量的个别激光脉冲的所述峰值处于预先设置的个别误差范围内为止。所述控制所述个别衰减器的所述入射角的过程可包含：当所述所测量的个别激光脉冲的所述峰值小于预先设置的个别峰值时，调节指派给小于所述预先设置的个别峰值的激光光源的个别衰减器的所述入射角以致使个别激光脉冲的所述峰值达到所述误差范围的下限。所述控制所述个别衰减器的所述入射角的过程可包含：当所述所测量的个别激光脉冲的所述峰值超过预先设置的个别峰值时，调节指派给超过所述预先设置的个别峰值的激光光源的所述个别衰减器的所述入射角以致使个别激光脉冲的所述峰值达到所述误差范围的上限。根据另一示范性实施例，一种校正激光脉冲的方法包含以下过程：测量个别激光脉冲的同步以检查在从多个激光光源射出且由每一个别衰减器进行强度调节的激光脉冲之间是否存在同步延迟；以及控制个别衰减器的入射角，其中当存在所述同步延迟时，指派给激光光源的个别衰减器的所述入射角经调节以改变激光脉冲的强度。在所述测量所述个别激光脉冲的所述同步的过程中，可检查是否同时检测到每一激光脉冲的峰值以检查所述同步延迟。可取决于经同步延迟的时间长度来确定同步延迟的激光光源的入射角的强度。激光光源的激光脉冲的能量强度可随着经同步延迟的所述时间长度增大而增大。根据另一示范性实施例，一种用于校正激光脉冲的装置包含：多个个别激光光源，射出(发射)激光脉冲；个别衰减器，指派给每一激光光源以控制激光脉冲的入射角来调节激光脉冲的强度；个别激光脉冲测量单元，测量从所述个别衰减器输出的个别激光脉冲的波形；以及反馈校正单元，取决于所测量的个别激光脉冲的变化而调节指派给每一激光光源的个别衰减器的入射角，以致使个别激光脉冲的波形处于误差范围内。所述个别激光脉冲测量单元可测量从所述多个激光光源射出且穿过每一个别衰减器的个别激光脉冲的峰值。所述反馈校正单元可逐步调节指派给处于误差范围之外的激光光源的个别衰减器的入射角，以致使所测量的个别激光脉冲的所述峰值处于预先设置的个别误差范围内。所述个别激光脉冲测量单元可检查从所述多个激光光源射出且穿过每一个别衰减器的激光脉冲之间是否存在同步延迟。所述反馈校正单元可在存在同步延迟时调节指派给具有所述同步延迟的激光光源的个别衰减器的入射角以改变激光脉冲的强度。根据本专利技术，通过校正从两个或两个以上的激光光源输出的激光脉冲的脉冲波形的变化，可恒定地维持辐射到衬底的激光脉冲。因此，通过校正每一激光光源的脉冲波形的变化，可防止工艺中的缺陷。附图说明可结合附图从以下描述更详细地理解示范性实施例。图1为根据本专利技术的实施例的激光校正装置的框图。图2(a)为取决于在第一激光脉冲与第二激光脉冲之间存在同步的曲线图。图2(b)为取决于在第一激光脉冲与第二激光脉冲之间不存在同步的曲线图。图3为根据本专利技术的实施例的通过使用激光脉冲的峰值来校正激光强度的过程的流程图。图4为根据本专利技术的实施例的通过使用激光脉冲的同步来校正激光强度的过程的流程图。图5(a)和图5(b)展示通过将第一激光脉冲与第二激光脉冲相加而获得的波形。图6(a)、图6(b)、图6(c)、图6(d)展示根据本专利技术的实施例的在发生同步延迟时增大激光脉冲的强度的过程。【主要元件标号说明】10：激光脉冲11：第一激光脉冲12：第二激光脉冲100：激光光源100a：第一激光光源100b：第二激光光源100c：激光光源100n：激光光源200：衰减器200a：第一衰减器200b：第二衰减器200c：衰减器200n：衰减器300：光学系统400：个别激光脉冲测量单元500：反馈校正单元S310、S320、S330、S410、S420：过程具体实施方式下文参看附图更详细地描述本专利技术的示范性实施例。然而，本专利技术按不同形式体现且不应视为限于本文所阐述的实施例。而是，提供这些实施例以使得本专利技术是详尽且完整的，且向所属领域的技术人员全面地传达本专利技术的范围。图式上的相同符号表示相同组件。在下文中，虽然通过使用激光校正装置来描述本专利技术的实施例，但显而易见的是，所述实施例还可应用于应用激光校正装置的所有衬底处理装置、激光处理装置、激光退火装置和激光热处理装置。图1为根据本专利技术的实施例的激光校正装置的框图。根据本专利技术的实施例的激光校正装置可实施于将激光脉冲辐射到衬底以将衬底退火的装置中。本专利技术不限于此，且可应用于各种激光校正装置，例如，从衬底移除薄膜的激光剥离装置。激光校正装置包含多个激光光源100、指派给每一激光光源100的衰减器200、测量从衰减器200输出的激光脉冲的个别激光脉冲测量单元400、光学系统300以及反馈校正单元500。激光光源100射出激光脉冲。从激光光源100射出的激光脉冲可从反射镜(未图示)反射，且辐射向处理室中的衬底的表面。激光光源100具有产生激光束的已知配置，且取决于将使用的激光脉冲的波长，可使用各种类型的装置，例如，KrF准分子激光装置和ArF准分子激光装置。举例来说，激光光源100可包含以下各个中的一个或一个以上：例如Ar激光器、Kr激光器或准分子激光束等气体激光脉冲；具有通过将Nd、Yb、Cr、Ti、Ho、Er、Tm和Ta中的一个或一个以上作为掺杂剂添加到单晶YAG、YVO4本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种校正激光脉冲的方法，其特征在于，所述校正激光脉冲的方法包括以下过程：测量个别激光脉冲，其中测量从多个激光光源射出且由每一个别衰减器进行强度调节的所述个别激光脉冲的峰值；控制每一衰减器的入射角，其中在所测量的个别激光脉冲的所述峰值处于预先设置的个别误差范围之外时调节指派给处于误差范围之外的激光光源的个别衰减器的所述入射角；以及重复所述测量所述个别激光脉冲的过程和所述控制个别衰减器的所述入射角的过程，直到所测量的个别激光脉冲的所述峰值处于预先设置的个别误差范围内为止。

【技术特征摘要】
2013.12.27 KR 10-2013-01655871.一种校正激光脉冲的方法，其特征在于，所述校正激光脉冲的方法包括以下过程：测量个别激光脉冲的同步以检查在从多个激光光源射出且由每一个别衰减器进行强度调节的激光脉冲之间是否存在同步延迟；以及控制个别衰减器的入射角，其中当存在所述同步延迟时，指派给激光光源的个别衰减器的所述入射角经调节以改变激光脉冲的强度，其中取决于经同步延迟的时间长度来确定具有所述同步延迟的激光光源的入射角的强度。2.根据权利要求1所述的校正激光脉冲的方法，其中在所述测量所述个别激光脉冲的所述同步的过程中，检查是否同时检测到每一激光脉冲的峰值以检查所述同步延迟。3.根据权利要求1所述的校正激光脉冲的方法，其中激光光源的激光脉冲的能量强度随着经同步延迟的所述时间长度增大而增大。4.一种用于校正激光脉冲的装置，其特征在于，所述用于校正激光脉冲的装置包括：多个个别激光光...

【专利技术属性】
技术研发人员：金贤中，方勇植，朴建植，池昊真，
申请(专利权)人：AP系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR