光照射设备制造技术

本发明专利技术提供一种用于将光照射到衬底上以处理所述衬底的光照射设备。所述光照射设备包含：透射窗，光透射穿过所述透射窗；收集器，设置在透射窗上方并且向上倾斜到透射窗的外部，收集器使在从所述衬底反射之后透射穿过透射窗的反射光偏移；以及冷却块，在冷却块中制冷剂在其中循环，冷却块设置在收集器中以冷却所述收集器。因此，根据实施例，因为收集器设置在透射窗上方并向上倾斜到透射窗的外部，并且在收集器的底表面上形成了突出部，所以可抑制或最小化反射光的漫反射。并且，收集器可将反射光朝所述透射窗的外部引导以防止从衬底S反射的反射光再入射到透射窗中。因此，可抑制由所述透射窗的温度失衡和温度升高造成的不均和光移位的产生。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光照射设备，并且更明确地说涉及能够抑制透射窗温度升高的光照射设备，所述温度升高是由于从衬底反射的光造成的透射窗温度失衡所致。
技术介绍
在液晶显示器和光伏装置的制造中，涉及到用于使非晶多晶薄膜(例如，非晶多晶硅薄膜)结晶的热处理工艺。此处，如果使用玻璃作为衬底，那么可通过使用激光来使非晶多晶薄膜结晶。然而，当非晶多晶薄膜与氧气(O2)反应时，非晶多晶薄膜可能会被氧化而产生氧化物薄膜并且还被杂质污染或者造成性质改变。根据现有技术的激光衬底处理设备包含:处理室10，具有对衬底I进行处理的内部空间；台2，设置在处理室10中以沿工艺进行方向来移动置于其上的衬底；透射窗40，设置在处理室10的上方部分上以允许激光8透射穿过；光源30，在处理室10的外部设置在透射窗40的上方部分处以输出激光8 ;以及收集器50，在处理室10的外部设置在透射窗40上方以吸收从衬底I反射并透射穿过透射窗40的反射光(见图7)。从光源30输出并接着照射到衬底I中的激光61可沿与激光61入射的方向对称的相反方向(即，沿向上方向(激光62))反射并再透射穿过透射窗40，并且接着入射到设置在透射窗4本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于将光照射到衬底上以处理所述衬底的光照射设备，其特征在于所述光照射设备包括：透射窗，所述光透射穿过所述透射窗；收集器，设置在所述透射窗上方并且向上倾斜到所述透射窗的外部，所述收集器使在从所述衬底反射之后透射穿过所述透射窗的反射光偏移；以及冷却块，在所述冷却块中制冷剂在其中循环，所述冷却块设置在所述收集器中以冷却所述收集器。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：沈亨基，白圣焕，金圣进，车恩熙，
申请(专利权)人：AP系统股份有限公司，三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR