氢分离膜保护层及其涂覆方法技术

本发明专利技术涉及用于在通过使用分离膜生产或净化氢的过程中使氢分离膜免受颗粒污染物危害的方法。保护层（其中，通过对分离膜的表面涂覆能引起氢分子和氢原子的表面运动的陶瓷和金属形成金属陶瓷）起到阻止分离膜和包含在气体中的颗粒（污染物或催化剂）之间的接触的作用。按照这种方式，可以提高氢分离膜的耐久性并最大限度地降低对分离膜的氢渗透性的影响。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及氢分离膜保护层及对所述氢分离膜保护层进行涂覆的方法，更具体地，涉及通过使用金属和陶瓷对氢分离膜的表面进行涂覆所形成的氢分离膜保护层，以在氢制造(净化)过程中氢分离膜被安装到反应器中时保护氢分离膜免受颗粒污染物的危害。特别地，通过防止将包含在气体中的污染物引入，可以提高氢分离膜的耐久性并最大限度地降低对分离膜氢渗透性能的影响。
技术介绍
分离设备对于从氢混合气体中获取氢是必要的，通过使用多种分离方法可以实现对氢的净化，这些分离方法使用变压吸附(PSA)、深冷处理、分离膜、或吸气剂(getter)。由于在氢净化技术中通过使用钯基分离膜对方法进行配置具有能量效率高的优点，因此在该领域中正在进行许多研究。由于氢分离膜的性能、氢通量(hydrogen flux)和选择性是最重要的指标，所以，国内外正进行大量研究并付出许多努力以改善这样的性能。特别地，由于氢渗透率由氢分离膜层的厚度决定，因此，正在研究对没有微孔的密致材料的超薄膜进行涂覆。 当钯基合金被制作成超薄膜时，由于热安全性以及在该过程中引入的细粉尘的附着，愈发增加了氢分离膜的损失以及成分变化的影响。也就是说，当直径本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种分离膜保护层结构，其包括金属陶瓷形式的分离膜保护层，所述分离膜保护层通过使用陶瓷和金属对密致的氢分离膜层的表面进行涂覆被制备，所述陶瓷和金属适于引起氢分子和氢原子的表面迁移。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.07.22 KR 10-2011-0073215;2011.12.13 KR 10-2011.一种分离膜保护层结构，其包括金属陶瓷形式的分离膜保护层，所述分离膜保护层通过使用陶瓷和金属对密致的氢分离膜层的表面进行涂覆被制备，所述陶瓷和金属适于引起氢分子和氢原子的表面迁移。2.根据权利要求1所述的分离膜保护层结构，其中，所述分离膜保护层的厚度为50nm至3μπι，被涂覆在并生长在所述分离膜层上的金属和陶瓷的平均直径的范围是...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄敬兰，朴种洙，李信根，李震石，李春枎，李晟旭，
申请(专利权)人：韩国能源技术研究院，
类型：发明
国别省市：韩国;KR