本发明专利技术公开了一种氢气分离装置，所述的氢气分离装置包括管状氢气分离膜、外壳、嵌入件、混合气体进气管、滤后气体排出管、氢气排出管，所述外壳底部安装有混合气体进气管和滤后气体排出管，混合气体进气管直接延伸至外壳内部，外壳顶部安装有氢气排出管，所述外壳内部设置有氢气分离膜，氢气分离膜上端与封板、下端用底板密封连接，氢气分离膜内部设置有嵌入件，嵌入件包括嵌入件内壁、嵌入件外壁、嵌入件顶壁和嵌入件底壁，嵌入件外壁与嵌入件底壁连接，嵌入件外壁与底板之间形成一个通孔，氢气分离膜采用铜钯合金制作而成，底板与混合气体进气管之间设置有滤后气体排出道，滤后气体排出道与滤后气体排出管贯通。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种氢分离膜装置，所述的一种氢气分离装置能使氢气从含有氢气的混合气体中分离出来。
技术介绍
随着近些年来的全球变暖等环境问题备受关注，对环境负影响小的产品研究和开发也越来越被重视。这些如氢气以及氢燃料电池等能源开始被使用。下文中描述了将氢气从含氢气的气体体中分离的技术，更具体地说，是一种具有管状钯合金膜的氢气提纯装置。氢气通过如甲烷在水蒸汽中反应(见公式(I))生成，一氧化碳与水蒸气反应时也能产生氢气(见公式(2))。(I) CH4+ H20 — C0+3H2(2)CO + H20 — C02+H2 但通过上述产生氢气的方法中可以看出，生成后的氢气在混合气体中，这些混合气体包括二氧化碳、甲烷和水蒸气。虽然根据原料组成和反应条件的类型不同，但混合气体中氢气大约会占总体积70%，二氧化碳在其中的浓度约占总体积的30%。本专利技术目的在于解决混合气体中氢气提纯的问题，采用一种氢气分离装置将氢气从混合气体中分离出来。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术中不足，提供了一种氢气分离设备，根据本专利技术的一种氢气分离装置，使用者可以从待处理气体中分离出高纯氢气并且具有含较好的制氢效率。为达到上述目的，本专利技术采用了如下技术方案: 一种氢气分离装置，所述的氢气分离装置包括管状氢气分离膜、外壳、嵌入件、混合气体进气管、滤后气体排出管、氢气排出管，所述外壳底部安装有混合气体进气管和滤后气体排出管，所述混合气体进气管直接延伸至外壳内部，所述外壳顶部安装有氢气排出管，所述外壳内部设置有氢气分离膜，所述氢气分离膜上端与封板、下端用底板密封连接，所述氢气分离膜内部设置有嵌入件，所述嵌入件包括嵌入件内壁、嵌入件外壁、嵌入件顶壁和嵌入件底壁，所述嵌入件内部形成一个空腔，所述嵌入件外壁与嵌入件底壁连接，且嵌入件外壁向底板方向延伸至嵌入件外壁与底板之间留有0.5mm一3mm的距离，嵌入件外壁与底板之间形成一个通孔，所述嵌入件外壁与氢气分离膜之间间距设置为5mm — 15mm，所述的氢气分离膜采用铜钯合金制作而成，所述底板与混合气体进气管之间设置有滤后气体排出道，所述滤后气体排出道与滤后气体排出管贯通。优选是，所述的氢气分离膜厚度为3 μ m。优选是，所述的嵌入件、外壳、底板和封板均采用铬镍铁合金制作。本专利技术具有如下的优点:根据本专利技术的一种氢气分离装置，使用者可以从待处理气体中分离出高纯氢气并且具有含较好的制氢效率。【附图说明】图1是本氢气分离装置的结构示意图。其中，1、氢气分离膜；la、氢气分离膜内表面；lb、氢气分离膜外表面；2、封板；3、底板；4、氢气排出管；5、外壳；6、混合气体通道；7、滤后气体排出道；8、嵌入件；8a、嵌入件内壁；8b、嵌入件外壁；8c、嵌入件顶壁；8d、嵌入件底壁；8e、通孔；9、滤后气体排出管；10、混合气体进气管。【具体实施方式】下面以附图和【具体实施方式】对本专利技术作进一步详细的说明。图1所示一种氢气分离装置，所述的氢气分离装置包括管状氢气分离膜1、外壳5、嵌入件8、混合气体进气管10、滤后气体排出管9、氢气排出管4，所述外壳5底部安装有混合气体进气管10和滤后气体排出管9，所述混合气体进气管10直接延伸至外壳5内部，所述外壳5顶部安装有氢气排出管4，所述外壳5内部设置有氢气分离膜1，所述氢气分离膜I上端与封板2、下端用底板3密封连接，所述氢气分离膜I内部设置有嵌入件8，所述嵌入件8包括嵌入件内壁8a、嵌入件外壁8b、嵌入件顶壁8c和嵌入件底壁8d，所述嵌入件8内部形成一个空腔，所述嵌入件外壁Sb与嵌入件底壁Sd连接，且嵌入件外壁Sb向底板3方向延伸至嵌入件外壁8b与底板3之间留有0.5mm一3mm的距离，嵌入件外壁8b与底板3之间形成一个通孔Se，所述嵌入件外壁Sb与氢气分离膜I之间间距设置为5mm — 15mm，所述的氢气分离膜I采用铜钯合金制作而成，所述底板3与混合气体进气管10之间设置有滤后气体排出道7，所述滤后气体排出道7与滤后气体排出管9贯通。优选是，所述的氢气分离膜I厚度为3 μπι。优选是，所述的嵌入件8、外壳5、底板3和封板2均采用铬镍铁合金制作。氢气分离膜I具有选择性透过氢气分子的性能。这种氢气分离膜的可选择渗透性是由于氢气分离膜的内表面Ia的氢气分子在2000 °C到 6000°C的温度下分散成了氢原子，氢原子在移动到氢气分离膜外表面Ib时受到由于氢气分离膜I内外表面压力不同而在氢气分离膜外表面Ib产生的驱动力，氢原子与其他氢原子在氢气分离膜I的外表面Ib结合并在氢气分离膜的外表面生成氢气。外壳5中氢气分离膜I为致密薄膜，并通过所述的薄膜使待处理的混合气体分离出氢气。使用时，混合气体通过混合气体进气管10进入，混合气体在嵌入件8与氢气分离膜I之间通道流动，由于氢气在高温下形成氢原子，且氢气分离膜内外表面之间有压力差促使氢气通过氢气分离膜进入到外壳与氢气分离膜之间的空腔内，由于氢气分离膜的选择性，致使其它气体沿着通道穿过通孔进入到滤后气体排出道，再通过滤后气体排出管排出，而过滤后的氢气则通过氢气排出管排出。【主权项】1.一种氢气分离装置，其特征在于:所述的氢气分离装置包括管状氢气分离膜、外壳、嵌入件、混合气体进气管、滤后气体排出管、氢气排出管，所述外壳底部安装有混合气体进气管和滤后气体排出管，所述混合气体进气管直接延伸至外壳内部，所述外壳顶部安装有氢气排出管，所述外壳内部设置有氢气分离膜，所述氢气分离膜上端与封板、下端用底板密封连接，所述氢气分离膜内部设置有嵌入件，所述嵌入件包括嵌入件内壁、嵌入件外壁、嵌入件顶壁和嵌入件底壁，所述嵌入件内部形成一个空腔，所述嵌入件外壁与嵌入件底壁连接，且嵌入件外壁向底板方向延伸至嵌入件外壁与底板之间留有0.5mm一3mm的距离，嵌入件外壁与底板之间形成一个通孔，所述嵌入件外壁与氢气分离膜之间间距设置为5_—15mm，所述的氢气分离膜采用铜钯合金制作而成，所述底板与混合气体进气管之间设置有滤后气体排出道，所述滤后气体排出道与滤后气体排出管贯通。2.根据权利要求1所述的一种氢气分离装置，其特征在于，所述的氢气分离膜厚度为3 μ m03.根据权利要求1所述的一种氢气分离装置，其特征在于，所述的嵌入件、外壳、底板和封板均采用铬镍铁合金制作。【专利摘要】本专利技术公开了一种氢气分离装置，所述的氢气分离装置包括管状氢气分离膜、外壳、嵌入件、混合气体进气管、滤后气体排出管、氢气排出管，所述外壳底部安装有混合气体进气管和滤后气体排出管，混合气体进气管直接延伸至外壳内部，外壳顶部安装有氢气排出管，所述外壳内部设置有氢气分离膜，氢气分离膜上端与封板、下端用底板密封连接，氢气分离膜内部设置有嵌入件，嵌入件包括嵌入件内壁、嵌入件外壁、嵌入件顶壁和嵌入件底壁，嵌入件外壁与嵌入件底壁连接，嵌入件外壁与底板之间形成一个通孔，氢气分离膜采用铜钯合金制作而成，底板与混合气体进气管之间设置有滤后气体排出道，滤后气体排出道与滤后气体排出管贯通。【IPC分类】C01B3/50【公开号】CN105110292【申请号】CN201510512395【专利技术人】周鑫林 【申请人】周鑫林【公开日】2015年12月2日【申请日】2015年8月20日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种氢气分离装置，其特征在于：所述的氢气分离装置包括管状氢气分离膜、外壳、嵌入件、混合气体进气管、滤后气体排出管、氢气排出管，所述外壳底部安装有混合气体进气管和滤后气体排出管，所述混合气体进气管直接延伸至外壳内部，所述外壳顶部安装有氢气排出管，所述外壳内部设置有氢气分离膜，所述氢气分离膜上端与封板、下端用底板密封连接，所述氢气分离膜内部设置有嵌入件，所述嵌入件包括嵌入件内壁、嵌入件外壁、嵌入件顶壁和嵌入件底壁，所述嵌入件内部形成一个空腔，所述嵌入件外壁与嵌入件底壁连接，且嵌入件外壁向底板方向延伸至嵌入件外壁与底板之间留有0.5mm—3mm的距离，嵌入件外壁与底板之间形成一个通孔，所述嵌入件外壁与氢气分离膜之间间距设置为5mm—15mm，所述的氢气分离膜采用铜钯合金制作而成，所述底板与混合气体进气管之间设置有滤后气体排出道，所述滤后气体排出道与滤后气体排出管贯通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：周鑫林，
申请(专利权)人：周鑫林，
类型：发明
国别省市：安徽;34
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