方块状钕铁硼磁体制造技术

本实用新型专利技术涉及磁体，公开了一种方块状钕铁硼磁体，包括磁体（1），所述的磁体（1）为长方体，长方体的中部设有圆形开孔（2）。本实用新型专利技术通过在磁体中部设置圆形开孔，便于磁体在安装过程中的定位和装配，磁体外设置电镀层，提高了磁体的磁稳定性。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
方块状钕铁硼磁体
本技术涉及磁体，尤其涉及了一种方块状钕铁硼磁体。
技术介绍
目前，在电机、传感器等设备上，都需要应用磁体，而现有的磁体，由于其磁性差、磁性不稳定，容易损坏等缺点，导致磁性设备无法正常、高效的运行。同时，由于现有磁体装配性差，因此磁体无法与磁性设备精确配合，影响设备的安装。
技术实现思路
本技术针对现有技术中的磁体，由于其磁性差、磁性不稳定，容易损坏以及装配性差等缺点，提供了一种磁性稳定，不容易损坏以及装配性能优异的方块状钕铁硼磁体。为了解决上述技术问题，本技术通过下述技术方案得以解决:方块状钕铁硼磁体，包括磁体，所述的磁体为长方体，长方体的中部设有圆形开孔，中间层表面的粗糙度为I一50μπι，磁体沿长方体的棱边设置30° — 65°的倒角。圆形开孔设置在长方体的几何中心位置。通过在长方体形状的磁体的中部设置圆形开孔，有利于磁体在安装的过程中的装配和定位，提高了磁体的安装效率。通过在中间层表面制备I一50 μ m粗糙度，能够提高中间层与电镀层的接触面积，从而提高中间层与电镀层的结合力以及电镀层的厚度，增强磁体的抗腐蚀性能。通过在磁体的棱边处设置30° — 65°的倒角，便于磁体的装配。作为优选，所述的磁体包括中间层以及电镀层，电镀层包裹在中间层外部。中间层为钕铁硼永磁体，通过在钕铁硼永磁体外设置电镀层，能够提高钕铁硼永磁体的耐腐蚀性，提高磁体的使用寿命。作为优选，所述的电镀层为镀锌层。作为优选，所述的电镀层为镀镍层。技术由于采用了以上技术方案，具有显著的技术效果:本技术通过在磁体中部设置圆形开孔，便于磁体在安装过程中的定位和装配，磁体外设置电镀层，提高了磁体的磁稳定性。【附图说明】图1是本技术实施例1的结构示意图。图2是图中I的A— A面的截面图。以上附图中各数字标号所指代的部位名称如下:其中I一磁体、2—圆形开孔、11 一中间层、12 —电锻层。【具体实施方式】下面结合附图1至图2与实施例对本技术作进一步详细描述:实施例1方块状钕铁硼磁体，如图1至图2所示，包括磁体1，所述的磁体I为长方体，长方体的中部设有圆形开孔2。圆形开孔2设置在长方体的几何中心位置。通过在长方体形状的磁体I的中部设置圆形开孔2，有利于磁体I在安装的过程中的装配和定位，提高了磁体的安装效率。磁体I包括中间层11以及电镀层12，电镀层12包裹在中间层11外部。中间层11为钕铁硼永磁体，通过在钕铁硼永磁体外设置电镀层12，能够提高钕铁硼永磁体的耐腐蚀性，提高磁体的使用寿命。电镀层12为镀锌层。中间层11表面的粗糙度为6 μ m。通过在中间层11表面制备6μπι粗糙度，能够提高中间层11与电镀层12的接触面积，从而提高中间层11与电镀层12的结合力以及电镀层12的厚度，增强磁体的抗腐蚀性能。实施例2本实施例与实施例1的区别在于:电镀层12为镀镍层。电镀层12为镀锌层。中间层11表面的粗糙度为15μπι。中间层11表面的粗糙度更大，更加有利于提高电镀层12的厚度，提高磁体的抗腐蚀性能。磁体I沿长方体的棱边设置45°的倒角。通过在磁体I的棱边处设置45°的倒角，便于磁体的装配。总之，以上所述仅为本技术的较佳实施例，凡依本技术申请专利范围所作的均等变化与修饰，皆应属本技术专利的涵盖范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
方块状钕铁硼磁体，包括磁体（1），其特征在于：所述的磁体（1）为长方体，长方体的中部设有圆形开孔（2），中间层（11）表面的粗糙度为1—50μm，磁体（1）沿长方体的棱边设置30°—65°的倒角。

【技术特征摘要】
1.方块状钕铁硼磁体，包括磁体(I)，其特征在于:所述的磁体(I)为长方体，长方体的中部设有圆形开孔(2)，中间层(11)表面的粗糙度为I一50 μ m，磁体(I)沿长方体的棱边设置30° — 65°的倒角。2.根据权利要求1所述的方块状钕铁硼磁体，其特征在于:...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲍金胜，
申请(专利权)人：浙江鑫盛永磁科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：