化学强化用浮法玻璃制造技术

本发明专利技术提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明专利技术涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β-OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β-OH之比为1.27以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化学强化用浮法玻璃
本专利技术涉及一种化学强化用浮法玻璃。
技术介绍
近年来，在手机或便携式信息终端(PDA)等平板显示装置中，为了保护显示器及提升美观，而以成为比图像显示部分更广的区域的方式将薄的板状盖板玻璃(カバーガラス)配置在显示器的前面。对于这样的平板显示装置，要求轻量及薄型化，因此，要求用于显示器保护用的盖板玻璃也变薄。但是，使盖板玻璃的厚度变薄时，强度降低，有时会因使用中或携带中的掉落等而盖板玻璃自身破裂，存在不能发挥保护显示装置的本来的作用的问题。因此，现有的盖板玻璃为了提高耐划伤性，而通过对通过浮法制造的浮法玻璃进行化学强化而在表面形成压缩应力层从而提高盖板玻璃的耐划伤性。近年来，在盖板玻璃等中，所要求的耐划伤性变得更高。对现有的钠钙玻璃进行化学强化而成的化学强化浮法玻璃的表面压缩应力为约500MPa，压缩应力层的深度为约10μm，但为了适应对高耐划伤性的要求，而开发了表面压缩应力为600MPa以上，压缩应力层的深度为15μm以上的化学强化浮法玻璃。据报道，浮法玻璃在化学强化后产生翘曲而损害平坦性(专利文献1)。该翘曲由于浮法成形时不与熔融锡接触的玻璃面(以下，也称为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，所述深度5～10μm处的标准化氢浓度为深度5～10μm处的氢浓度除以深度50～55μm处的氢浓度所得的值；在此，深度5～10μm处的氢浓度及深度50～55μm处的氢浓度为在以下的分析条件下测得的值，（分析条件）测定装置：具有四极质谱分析仪的次级离子质谱分析装置初级离子种类：Cs＋初级加速电压：5.0kV初级离子电流：1μA初级离子入射角（与试样面的垂直方向的角度）：60°光栅尺寸：200×200μm2检测...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.07.01 JP 2011-147494;2011.12.08 JP 2011-26891.一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，该顶面的氢浓度比该底面的氢浓度低，板厚为1.5mm以下，其中，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下。2.如权利要求1所述的化学强化用浮法玻璃，其中，所述平均H/Si强度为在以下的分析条件下测得的值，分析条件：测定装置：具有四极质谱分析仪的次级离子质谱分析装置ADEPT1010初级离子种类：Cs+初级加速电压：5.0kV初级离子电流：1μA初级离子入射角、即初级离子与试样面的垂直方向的角度：60°光栅尺寸：400×400μm2检测区域：40×40μm2次级离子极性：负使用中和用的电子枪检测器的视场孔径：1检测器的静电分析器输入透镜：0。3.如权利要求1或2所述的化学强化用浮法玻璃，其中，底面的深度5～10μm处的所述平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的所述平均H/Si强度之比为1.60以下。4.如权利要求1或2所述的化学强化用浮法玻璃，其中，底面的深度5～10μm处的所述平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的所述平均H/Si强度之比为1.55以下。5.如权利要求1或2所述的化学强化用浮法玻璃，其中，底面的深度5～10μm处的所述平均H/S...

【专利技术属性】
技术研发人员：山中一彦，小池章夫，藤原祐辅，小林大介，网野阳介，秋山良司，白井正信，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：
国别省市：