基板上的图案形成方法技术

一种基板上的图案形成方法，包括：将多片基板贴附于承载板上，且基板彼此分离。撷取贴附有基板的承载板的参考影像。对参考影像进行影像处理以获得基板的处理信息。使用激光记忆曝光机根据基板的处理信息对基板进行曝光步骤。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种基板上的图案形成(patterning)方法,特别是涉及一种使用激光记忆曝光机的。
技术介绍
在一般半导体工艺中，微影工艺(photolithography)可以说是最举足轻重的步骤之一。这是由于凡是与半导体元件结构相关者，例如各层薄膜的图案等，都是由微影工艺来决定。简单而言，微影工艺包括曝光步骤及显影步骤，其中即通过曝光步骤来决定目标层的图案。但是，当多片基板不容易精准地排列时，如何能够准确地在基板的目标层上形成所要的图案，且能够有效缩短曝光时间以提升产能的微影方法是目前本领域技术人员极欲发展的目标。
技术实现思路
本专利技术提供一种，其可降低曝光时间，以提升产能。本专利技术的包括以下步骤。将多片基板贴附于承载板上，且基板彼此分离。撷取贴附有基板的承载板的参考影像。对参考影像进行影像处理以获得基板的处理信息。使用激光记忆曝光机(laser directly image, LDI)根据基板的处理信息对基板进行一曝光步骤。基于上述，在本专利技术的实施例所提出的中，通过撷取承载板及所有基板的影像，并使用激光记忆曝光机根据处理该影像后所获得的处理信息对所有基板进本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板上的图案形成方法，包括：将多片基板贴附于一承载板上，且这些基板彼此分离；撷取贴附有这些基板的该承载板的一参考影像；对该参考影像进行影像处理以获得各该基板的一处理信息；以及使用一激光记忆曝光机根据这些基板的这些处理信息对这些基板进行一曝光步骤。

【技术特征摘要】
2013.07.19 TW 1021260051.一种基板上的图案形成方法，包括: 将多片基板贴附于一承载板上，且这些基板彼此分离； 撷取贴附有这些基板的该承载板的一参考影像； 对该参考影像进行影像处理以获得各该基板的一处理信息；以及 使用一激光记忆曝光机根据这些基板的这些处理信息对这些基板进行一曝光步骤。2.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，还包括在进行该曝光步骤之前，于各该基板上形成一光敏感材料层。3.如权利要求2所述的基板上的图案形成方法，该光敏感材料层包括一干式光阻层或是一湿式光阻层。4.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，还包括在贴附这些基板于该承载板之前，在该承载板上形成至少一对位标记，且贴附这些基板于该承载板的步骤包括根据该至少一对位标记调整这些基板的贴附位置。5.如权利要求4所述的基板上的图案形成方法，还包括在该承载板上形成该对位标记之后，形成一保护层以覆盖该对位标记。6.如权利要求1所述的基板上的图案形成方法，还包括在贴附这些基板于该承载板之前，在该基板上形成至...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭怡辰，高一弘，刘志豪，古吉洋，陈峰毅，陈安正，周诗博，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：