【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种集成电路装备制造领域,尤其涉及一种用于光刻机的。
技术介绍
光刻装置是制造集成电路的主要设备,其作用是使不同的掩膜图案依次成像到基底(如半导体硅片或IXD板)上的精确对准的位置。然而这个对准位置却因为连续图形所经历的物理和化学变化而改变,因此需要一个对准系统,以保证硅片对应掩膜的对准位置每次都能够被精确的对准。随着基底每单位表面积上的电子元件数量的增长以及电子元件的尺寸合成越来越小,对集成电路的精度要求日益提高,因此依次掩膜成像在基底上的位置必须越来越准确的固定,对光刻时对准精度的要求也越来越高。在光刻机领域中整机的产率Throughout (产率)是光刻机三大核心指标之一。为提高产率各光刻机制造商不断努力挖掘潜力,以ASML公司为首推出了 TwinScan系列双工件台系统,如专利 US6417914、US6665054、US6937318、US7136148、US7289194、US20020196421中所示。TwinScan系列双工件台系统在整机测量位对硅片上16个对准标记进行精对准,以提闻对准精度。在超大集成电路制造领域中,为解决复杂多点冲孔的路径优化问题,如专利US7054798所述提出一种结合旅行商问题算法(Traveling Sales Problem, TSP)对平面内单一冲孔路径进行近似计算,获得一条最短的加工路径,以此来提高加工效率。图1是现有技术中所使用的全局调平边沿扫描(GLC)流程和算法示意图。如图1中所示, 硅片全局调平边沿扫描依据硅片边缘处n个扫描区域,采用GLC起点/终点固定,Y正向初始算法进行 ...
【技术保护点】
一种全局调平边沿扫描的装置,其特征在于,包括:?工件台,用于承载一硅片,并为所述硅片提供多个自由度运动;工件台驱动装置,用于驱动所述工件台;?调焦调平装置,用以实现对硅片和调焦调平装置的标记的垂向测量并建立两者之间的关系;?测量系统,用于测量所述工件台的位置;第一传输系统,用于输入信息,所述输入信息为所述测量系统测得的信息;计算器,用于根据输入的信息进行计算得出全局调平边沿扫描的初始位置;第二传输系统,用于将初始位置信号传输给所述工件台驱动装置;所述工件台驱动装置驱动所述工件台从初始位置开始进行全局调平边沿扫描,最终回到初始位置。
【技术特征摘要】
1.一种全局调平边沿扫描的装置,其特征在于,包括: 工件台,用于承载一硅片,并为所述硅片提供多个自由度运动; 工件台驱动装置,用于驱动所述工件台; 调焦调平装置,用以实现对硅片和调焦调平装置的标记的垂向测量并建立两者之间的关系; 测量系统,用于测量所述工件台的位置; 第一传输系统,用于输入信息,所述输入信息为所述测量系统测得的信息; 计算器,用于根据输入的信息进行计算得出全局调平边沿扫描的初始位置; 第二传输系统,用于将初始位置信号传输给所述工件台驱动装置; 所述工件台驱动装置驱动所述工件台从初始位置开始进行全局调平边沿扫描,最终回到初始位置。2.如权利要求1所述全局调平边沿扫描的装置,其特征在于,所述测量系统为一激光干涉仪或光栅尺或编码器传感器。3.如权利要求1所述全局调平边沿扫描的装置,其特征在于,所述工件台包括一微动台,所述硅片置于所述微动台顶部。4.一种全局调平边沿扫描的方法,其特征在于,包括: 步骤一、输入信息; 步骤二、根据输入的信息进行计算得出全局调平边沿扫描的初始位置; 步骤三、将初始位置信号传...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴飞,王献英,束奇伟,孙刚,袁志扬,
申请(专利权)人:上海微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:
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