阵列基板及3D显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及显示技术领域，公开了一种阵列基板及3D显示装置。所述阵列基板，包括：衬底基板及位于衬底基板上的像素阵列层，还包括：由若干间隔有预定距离的挡光条形成的用于3D显示的光栅层，光栅层位于像素阵列层背离衬底基板一侧，或位于衬底基板面向像素阵列一侧，或位于衬底基板背离像素阵列一侧，挡光条用于将通过衬底基板射向像素阵列层的光线反射。即在显示时，背光源发出的且未透过的光栅层的光被反射回背光源，由于背光源通常具有使光漫反射的导光板，导光板将反射回背光源的光再次反射使光透过光栅层，从而提高显示亮度。所述3D显示装置，包括所述的阵列基板。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及3D显示装置
本技术涉及3D显示
，特别是涉及一种阵列基板及3D显示装置。
技术介绍
目前比较成熟的光栅裸眼3D技术，其基本结构为在显示屏的上偏光片外侧贴附一层光栅层，通过该光栅层将显示屏中像素发出的光分别输出给观看者的左、右眼，从而产生立体视觉效果。现有裸眼3D显示装置的结构如图1和图2所示，图1中示出的显示装置包括由位于彩膜基板2上方的上偏光片1、位于阵列基板下方的下偏光片4、以及彩膜基板2和阵列基板3对盒形成的显示屏，彩膜基板2和阵列基板3之间为液晶层7。在上偏光片I的上方设置了光栅基板5,光栅基板5上方形成有光栅层6,光栅层6作为视差挡板，以在显示装置的视区内形成左、右眼视区。图2中示出的显示装置与图1中显示装置的结构相类似，只是将光栅层6设置在了上偏光片I和光栅基板5之间，同样能够实现裸眼3D显示。其中，光栅基板5可以为玻璃或塑料。在实际应用过程中发现，上述裸眼3D显示技术存在以下问题:(I)因为增加了光栅基板，光线的透过率较低，显示装置的亮度较低，同时因光栅基板的存在，显示装置整体厚度增加；(2)光栅区域需要与像素区域对位，在制备工艺中，形成有光栅层的光栅基板与显示屏对位贴合困难，良品率较低，同时光栅与阵列基板上像素对位精度低也将极大影响显示装置的显示效果；另外需要有专门的对位贴合制作工序，所以引起显示装置成本较高；( 3 )光栅会挡住一部分光线不透显示装置，导致整个显示装置的亮度较暗。为了解决上述问题，另一种方案中可以将光栅层6直接制作于彩膜基板2之上，SP光栅层6位于彩膜基板2和上偏光片I之间，如图3所示，显示屏的彩膜基板2以下的层级结构与图1和图2中显示屏层的彩膜基板2以下的层级结构相同。该方案中只是减少了光栅基板，将光栅层6做在了彩膜基板2和上偏光片I之间，这样能够解决上述(I)和(2)的问题，但是该种结构中，整个显示装置的亮度仍然无法改善。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本技术要解决的技术问题是:如何提高3D显示装置的亮度。(二)技术方案为了解决上述技术问题，本技术提供了一种阵列基板，包括:衬底基板及位于所述衬底基板上的像素阵列层，还包括:由若干间隔有预定距离的挡光条形成的用于3D显示的光栅层，所述光栅层位于所述像素阵列层背离所述衬底基板一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板面向所述像素阵列一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板背离所述像素阵列一侧，所述挡光条用于将通过所述衬底基板射向所述像素阵列层的光线反射。其中，所述像素阵列层包括像素电极层和位于所述像素电极层背离所述衬底基板一侧的取向层，所述光栅层位于所述像素阵列层背离所述衬底基板一侧具体为:所述光栅层位于所述像素电极层和取向层之间。其中，所述光栅层位于所述衬底基板背离所述像素阵列层一侧，所述挡光条包括:遮光层和反光层，所述遮光层位于衬底基板和所述反光层之间，且所述反光层在所述衬底基板上的投影被所述遮光层在所述衬底基板上的投影覆盖。其中，所述挡光条由反光材料制成。其中，还包括:位于所述挡光条背离所述像素阵列层一侧的偏光片。其中，还包括:位于所述衬底基板背离所述像素阵列层一侧的偏光片，所述光栅层位于所述衬底基板背离所述像素阵列层一侧具体为:所述光栅层位于所述偏光片背离所述像素阵列层的一侧。其中，所述挡光条包括:遮光层和反光层，所述遮光层位于所述偏光片和所述反光层之间，且所述反光层在所述衬底基板上的投影被所述遮光层在所述衬底基板上的投影覆至JHL ο本技术还提供了一种3D显示装置，包括上述任一项所述的阵列基板。(三)有益效果本技术中将光栅层设置在像素阵列层背离所述衬底基板一侧，或所述衬底基板面向所述像素阵列一侧，或所述衬底基板背离所述像素阵列一侧，且光栅层的挡光条能够将通过衬底基板射向像素阵列层的光线反射。即在显示时，背光源发出的且未透过的光栅层的光被反射回背光源，由于背光源通常具有使光漫反射的导光板，导光板将反射回背光源的光再次反射使光透过光栅层，从而提高显示亮度。【附图说明】图1是现有技术中的一种裸眼3D显示装置的结构示意图；图2是现有技术中的另一种裸眼3D显示装置的结构示意图；图3是现有技术中的又一种裸眼3D显示装置的结构示意图；图4是本技术实施例的一种阵列基板的结构示意图；图5是本技术实施例的另一种阵列基板的结构示意图；图6是本技术实施例的又一种阵列基板的结构示意图；图7是本技术实施例的又一种阵列基板的结构示意图；图8是本技术实施例的又一种阵列基板的结构示意图；图9是本技术实施例的又一种阵列基板的结构示意图；图10是本技术实施例的又一种阵列基板的结构示意图；图11是图10中阵列基板形成3D显示装置后3D显示原理图；图12是本技术实施例的又一种阵列基板的结构示意图；图13是包括图5中阵列基板的显示装置结构示意图。【具体实施方式】本技术的阵列基板包括:衬底基板及位于所述衬底基板上的像素阵列层，为了使在显示时为透过光栅层的光能够被反射至背光源，再次被背光源反射使反射后的光透过光栅层，从而提高显示亮度，还包括:由若干间隔有预定距离的挡光条形成的用于3D显示的光栅层，所述光栅层位于所述像素阵列层背离所述衬底基板一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板面向所述像素阵列一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板背离所述像素阵列一侧，所述挡光条用于将通过所述衬底基板射向所述像素阵列层的光线反射。光栅层用于将显示屏中像素发出的光分别输出给观看者的左、右眼，从而产生3D视觉效果，实现裸眼3D显示。下面结合附图和实施例，对本技术的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。实施例1本实施例提供的阵列基板如图4所示，包括:衬底基板100 (玻璃基板或石英材料的透明基板)及位于衬底基板100上方的像素阵列层200，还包括:位于衬底基板100下方的由若干间隔有预定距离的挡光条形成的光栅层。本实施例中，挡光条包括:遮光层410和反光层420，遮光层410位于衬底基板100和所述反光层420之间。由于要达到较好3D显示视角，挡光条的宽度及间距都已事先设定，为了不影响3D显示视角，反光层420的在衬底基板100上的投影被遮光层410在衬底基板100上的投影覆盖。优选地,将遮光层410直接形成在衬底基板100的下表面,反光层420形成在遮光层410的下表面。这样可以不需要光栅基板，增加了光的透过率。直接形成时，采用构图工艺(通常包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺)将遮光层410形成在衬底基板100下表面，将反光层420形成在遮光层410的下表面，相对于贴合工艺，提高了光栅层与像素阵列层200中亚像素的对位精度。制作该阵列基板的步骤包括:在衬底基板100 —侧的表面形成像素阵列层200，在所述衬底基板另一侧形成由若干间隔有预定距离的挡光条排列成的光栅层的图形。具体包括:衬底基板100 —侧的表面(图中为上表面)形成像素阵列层200 ；在衬底基板100另一侧的表面(图中为下表面)形成不透明的遮光材料薄膜，该材料可以采用不透光黑色树脂；通过构图工艺形成挡光条的遮光层410的图形；继续形成反光材料薄膜,可以是金属材本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，包括：衬底基板及位于所述衬底基板上的像素阵列层，其特征在于，还包括：由若干间隔有预定距离的挡光条形成的用于3D显示的光栅层，所述光栅层位于所述像素阵列层背离所述衬底基板一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板面向所述像素阵列一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板背离所述像素阵列一侧，所述挡光条用于将通过所述衬底基板射向所述像素阵列层的光线反射。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括:衬底基板及位于所述衬底基板上的像素阵列层，其特征在于，还包括:由若干间隔有预定距离的挡光条形成的用于3D显示的光栅层，所述光栅层位于所述像素阵列层背离所述衬底基板一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板面向所述像素阵列一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板背离所述像素阵列一侧，所述挡光条用于将通过所述衬底基板射向所述像素阵列层的光线反射。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素阵列层包括像素电极层和位于所述像素电极层背离所述衬底基板一侧的取向层，所述光栅层位于所述像素阵列层背离所述衬底基板一侧具体为:所述光栅层位于所述像素电极层和取向层之间。3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述光栅层位于所述衬底基板背离所述像素阵列层一侧，所述挡光条包括:遮光层和反光层，所述遮光层位于衬底基板和所述反光层...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏伟，武延兵，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：