一种彩膜基板及具有该彩膜基板的显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种彩膜基板及具有该彩膜基板的显示装置，所述彩膜基板包括：基板，形成于所述基板一侧的黑矩阵，形成于所述黑矩阵上的彩色树脂单元，形成于所述彩色树脂单元之上的第一透明减反膜，所述第一透明减反膜的折射率大于第一预定折射率。本发明专利技术的彩膜基板可以降低其表面对光的反射能力。

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及具有该彩膜基板的显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及具有该彩膜基板的显示装置。
技术介绍
请参考图1，图1为现有的彩膜基板的结构示意图。从图1中可以看出，现有的彩膜基板102主要包括:基板1021，氧化铟锡(ITO)电极层1022、黑矩阵(BM) 1023、彩色树脂(R/G/B)层1024、保护层1025及柱状隔垫物(PS) 1026。其中，彩色树脂单元1024和保护层1025的折射率较低，对光的反射能力较强。请参考图2，图2为现有的液晶显示装置中的光路示意图，液晶显示装置的背光源发出的入射光201依次透过阵列基板101、液晶(图未示出)和彩膜基板102后的透射光202最终到达人眼，从而实现了画面显示。由于现有的彩膜基板102的表面对入射光201具有较高的反射性能，经彩膜基板102表面形成的反射光203会照射到阵列基板101的栅线、数据线或薄膜晶体管(TFT)上产生光生电流，产生的光生电流会影响薄膜晶体管的电容，从而影响薄膜晶体管的特性。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种彩膜基板及具有该彩膜基板的显示装置，以降低彩膜基板表面对光的反射能力。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种彩膜基板，包括:基板，形成于所述基板一侧的黑矩阵，形成于所述黑矩阵上的彩色树脂单元，形成于所述彩色树脂单元之上的第一透明减反膜，所述第一透明减反膜的折射率大于第一预定折射率。优选地，所述第一透明减反膜同时作为所述彩色树脂单元的保护层直接形成于所述彩色树脂单元之上。优选地，所述彩膜基板还包括:形成于所述彩色树脂单元和所述第一透明减反膜之间的保护层。优选地，所述彩膜基板还包括:形成于所述彩色树脂单元与所述保护层之间的第二透明减反膜，所述第二透明减反膜的折射率大于第二预定折射率。优选地，所述第二预定折射率大于或等于1.5。优选地，所述第二透明减反膜采用二氧化硅、二氧化钛或二氧化铪制成。优选地，所述第一透明减反膜采用二氧化硅、二氧化钛或二氧化铪制成。优选地，所述第一预定折射率大于或等于1.5。优选地，所述彩膜基板还包括:形成于所述基板另一侧的电极层。本专利技术还提供一种显示装置，包括上述彩膜基板。本专利技术的上述技术方案的有益效果如下:本专利技术中，在彩膜基板上增加了高折射率的透明减反膜，当背光源的光线透过使用该彩膜基板的液晶显示装置的阵列基板和液晶照射到彩膜基板表面时，经该彩膜基板表面反射到阵列基板的栅线、数据线或薄膜晶体管上的反射光强度会比使用传统彩膜基板的反射光强度要低很多，从而可以减少由于反射光造成的光生电流对薄膜晶体管器件特性的影响。【附图说明】图1为现有的彩膜基板的结构示意图；图2为现有的液晶显不装置中的光路不意图；图3为本专利技术实施例一的彩膜基板的结构示意图；图4为本专利技术实施例二的彩膜基板的结构示意图；图5为本专利技术实施例三的彩膜基板的结构示意图；图6为本专利技术实施例二的彩膜基板的制备方法示意图；图7为本专利技术实施例的显示装置中的光路示意图。【具体实施方式】本专利技术实施例中，在彩膜基板上增加了高折射率的透明减反膜，当背光源的光线照射到该彩膜基板表面时，可以降低彩膜基板表面对光的反射能力，从而避免经彩膜基板表面形成的反射光会照射到阵列基板的栅线、数据线或薄膜晶体管上产生光生电流，影响薄膜晶体管的特性。为使本专利技术要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。请参考图3，图3为本专利技术实施例一的彩膜基板的结构示意图。本实施例的彩膜基板包括:基板301，形成于所述基板301 —侧的电极层302，形成于所述基板301另一侧的黑矩阵303，形成于所述黑矩阵303上的彩色树脂单元304。其中，彩色树脂单元304采用诸如红/绿/蓝(R/G/B)等彩色树脂材料制成，其折射率较低，对光的反射能力较强，为了降低彩色树脂单元304对光的反射能力，本专利技术实施例中的彩膜基板还可以包括:形成于所述彩色树脂单元306之上的第一透明减反膜305，所述第一透明减反膜305的折射率大于预定折射率。所述第一透明减反膜305可以采用二氧化硅(Si02)、二氧化钛(Ti02)或二氧化铪(Hf02)等材料制成。所述第一预定折射率可以大于或等于1.5。本实施例中，所述第一透明减反膜305直接形成于所述彩色树脂单元304之上，在降低彩色树脂单元304的反射能力的同时，还作为所述彩色树脂单元304的保护层。此外，为了维持彩膜基板所在的液晶盒的盒厚(cell gap)，本专利技术实施例中的彩膜基板还可以包括:形成于所述第一透明减反膜305上的隔垫物306。本实施例中，所述隔垫物306为柱状隔垫物。当然，在本专利技术的其他实施例中，所述彩膜基板也可以不包括隔垫物，隔垫物也可以设置于与彩膜基板相对设置的阵列基板上。通过上述实施例提供的彩膜基板，在彩膜基板的彩色树脂单元304上增加一层高折射率的第一透明减反膜305，以降低彩膜基板表面对光的反射能力，从而避免经彩膜基板表面形成的反射光会照射到阵列基板的栅线、数据线或薄膜晶体管上产生光生电流，影响薄膜晶体管的特性。请参考图4，图4为本专利技术实施例二的彩膜基板的结构示意图。本实施例的彩膜基板包括:基板301，形成于所述基板301 —侧的电极层302，形成于所述基板301另一侧的黑矩阵303，形成于所述黑矩阵303上的彩色树脂单元304，形成于所述彩色树脂单元304上的保护层307。其中，彩色树脂单元304采用诸如红/绿/蓝(R/G/B)等彩色树脂材料制成，保护层307通常采用透明树脂材料制成，两者的折射率均较低，对光的反射能力较强，为了降低彩色树脂单元304及保护层307对光的反射能力，本专利技术实施例中的彩膜基板还可以包括:形成于所述保护层307之上的第一透明减反膜305，所述第一透明减反膜305的折射率大于预定折射率。所述第一透明减反膜305可以采用二氧化硅、二氧化钛或二氧化铪等材料制成。所述预定折射率可以为大于或等于1.5。此外，为了维持彩膜基板所在的液晶盒的盒厚，本专利技术实施例中的彩膜基板还可以包括:形成于所述第一透明减反膜305上的隔垫物306。本实施例中，所述隔垫物306为柱状隔垫物。当然，在本专利技术的其他实施例中，所述彩膜基板也可以不包括隔垫物，隔垫物也可以设置于与彩膜基板相对设置的阵列基板上。通过上述实施例提供的彩膜基板，在彩膜基板的保护层307上增加一层高折射率的第一透明减反膜305，以降低彩膜基板表面对光的反射能力，从而避免经彩膜基板表面形成的反射光会照射到阵列基板的栅线、数据线或薄膜晶体管上产生光生电流，影响薄膜晶体管的特性。请参考图5，图5为本专利技术实施例三的彩膜基板的结构示意图。本实施例的彩膜基板包括:基板301，形成于所述基板301 —侧的电极层302，形成于所述基板301另一侧的黑矩阵303，形成于所述黑矩阵303上的彩色树脂单元304，形成于所述彩色树脂单元304上的保护层307。其中，彩色树脂单元304采用诸如红/绿/蓝(R/G/B)等彩色树脂材料制成，保护层307通常采用透明树脂材料制成，两者的折射率均较低，对光的反射能力较强，为了降低彩色树脂单元304及保护层307对光的反射能力，本专利技术实施例中的彩膜基板还可以包括:形成于所述彩色树脂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，包括：基板，形成于所述基板一侧的黑矩阵，形成于所述黑矩阵上的彩色树脂单元，其特征在于，还包括：形成于所述彩色树脂单元之上的第一透明减反膜，所述第一透明减反膜的折射率大于第一预定折射率。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，包括:基板，形成于所述基板一侧的黑矩阵，形成于所述黑矩阵上的彩色树脂单元，其特征在于，还包括:形成于所述彩色树脂单元之上的第一透明减反膜，所述第一透明减反膜的折射率大于第一预定折射率。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一透明减反膜同时作为所述彩色树脂单元的保护层直接形成于所述彩色树脂单元之上。3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括:形成于所述彩色树脂单元和所述第一透明减反膜之间的保护层。4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，还包括: 形成于所述彩色树脂单元与所述保护层之间的第二透明减反膜，所述第二透...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄常刚，张思凯，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：