一种透明导电膜制造技术

技术编号:9490866 阅读:69 留言:0更新日期:2013-12-26 00:36
本发明专利技术公开了一种透明导电膜,包括基材,并在基材表面依次镀覆底层、黑色层、导电层和保护层,然后对黑色层、导电层和保护层进行图案蚀刻,形成网格线图案,网格线沿着第一方向和第二方向布设,网格线之间形成的网格单元为透明区,透明区的形状为四边形。导电层为金属网格,阻抗低,适用于中大屏幕触摸屏,并且具有较高的透光率和抗干扰能力,减小设备的耗电;并且金属网格与现有技术中ITO导电膜相比,成本大大降低。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种透明导电膜,包括基材,并在基材表面依次镀覆底层、黑色层、导电层和保护层,然后对黑色层、导电层和保护层进行图案蚀刻,形成网格线图案,网格线沿着第一方向和第二方向布设,网格线之间形成的网格单元为透明区,透明区的形状为四边形。导电层为金属网格,阻抗低,适用于中大屏幕触摸屏,并且具有较高的透光率和抗干扰能力,减小设备的耗电;并且金属网格与现有技术中ITO导电膜相比,成本大大降低。【专利说明】—种透明导电膜
本专利技术涉及导电层
,特别涉及一种金属网格的透明导电膜。
技术介绍
透明导电膜广泛应用于触摸屏、平板显示、光伏器件、电磁屏蔽等领域,特别在电容式触摸屏领域的应用快速增长。触摸屏是可接收触摸等输入信号的感应装置。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌,是极富吸引力的全新信息交互设备。触摸屏技术的发展引起了国内外的普遍关注,已成为光电行业异军突起的朝阳高新技术产业。透明导电膜作为触摸屏中至关重要的组成部分,目前,触摸屏的导电膜主要是以ITO (氧化铟锡)通过真空镀膜、图形化蚀刻的工艺形成于绝缘基材上。但是ITO材料昂贵,生产成本很高;并且受镀膜温度限制,ITO镀在基材上不能够做到低阻抗,不利于做成大面积的触摸屏,阻抗高了电容式触摸屏会降低性能,甚至驱动集成电路将无法驱动其正常工作。另外,ITO制成的导电膜的透光率不是很高,通常只有80%-88%左右,这样影响到了显示的亮度、对比度以及色彩等,当透光率较低时,如果想看清屏幕就必须调高亮度,设备的耗电必然会增加,同时对眼睛的刺激也会增加。
技术实现思路
本专利技术目的是:提供一种透明导电膜,用多层复合结构的网格层替代ΙΤ0,降低阻抗,减少成本,并且具有良好的透光率(透光率可达88%-90%)。本专利技术的技术方案是: 一种透明导电膜包括基材和网格线层。基材包括第一表面和第二表面,第一表面和第二表面相对设置。网格线层镀覆在第二表面,网格线层中的网格线之间形成的网格单元为透明区,网格线层包括黑色层、导电层和保护层,黑色层成形于第二表面,其为金属氧化物层;导电层为金属层;保护层为金属合金层,用于防止导电层氧化。优选的,所述网格线层中的网格线分别沿着第一方向和第二方向布设,第一方向和第二方向相交,透明区为四边形。优选的,所述第二表面和黑色层之间还成形有底层,底层为Si02层。优选的,所述黑色层可以代替所述保护层。优选的,所述导电层中的金属为铜。优选的,所述导电层的厚度为0.5_5um。优选的,所述黑色层中的金属氧化物为氧化铬、氧化镍的混合物,黑色层的厚度为40nm-100nmo优选的,所述保护层中的金属合金为铜镍合金或不锈钢,保护层的厚度为20nm-500nmo优选的, 所述基材为玻璃或者透明塑料膜。本专利技术中导电膜的透光率、阻抗与网格线的线宽以及线距有关。网格线距离越大,线宽越小,透光率就越高;而网格线的距离越小,线宽越大,导电性能就越高,阻抗就越低。所述的透明导电膜,利用真空溅射镀膜或蒸发镀膜的方法依次将各层镀覆于基材之上,形成各个镀层,然后再利用蚀刻的方法制得网格线。本专利技术的优点是: 1.用金属网格线代替ITO导电膜,阻抗明显变小,能够稳定适用于中大屏幕触摸屏;相比ITO导电膜具有更高的透光率,在相同的显示亮度情况下,使用本专利技术的导电膜时的耗电量更低,对眼睛的刺激也更小;并且,金属网格的价格大大低于ITO导电膜,降低了触摸屏的成本。2.黑色层利用光学干涉得到表面为黑色,可以减少可见反射光,使得网格线不易被肉眼看见。3.当基材的第二表面喷涂一些油墨图案之后,不易于进行镀膜,然而在第二表面和黑色层之间加设Si02的底层后,较易进行镀膜,使得各层能够牢固镀覆在基材的第二表面,不易脱落。【专利附图】【附图说明】下面结合附图及实施例对本专利技术作进一步描述: 图1为本专利技术蚀刻前的结构示意图, 图2为本专利技术的结构示意图。其中:1.基材,2.底层,3.黑色层,4.导电层,5.保护层。【具体实施方式】实施例1: 本专利技术实施例1提供了一种透明导电膜,如图1所示,本专利技术涉及的透明导电膜从下至上依次包括有基材1、底层2、黑色层3、导电层4、保护层5,基材I为玻璃或者为透明塑料膜,其包括相对设置的第一表面和第二表面,在基材I的第二表面首先用真空溅射镀膜或蒸发镀膜的方法镀覆底层2,底层2为透明的Si02层,第二表面上可以喷涂油墨,形成油墨图案;然后在底层2上依次镀覆黑色层3、导电层4和保护层5,其中,黑色层3为氧化铬和氧化镍的混合物,其厚度为40nm-100nm,利用光学干涉的方法能够使得肉眼看到的为黑色表面;导电层4为金属层,优选为铜,其厚度为0.5-5um ;保护层5为金属合金层,优选为铜镍合金或不锈钢,其厚度为20nm-500nm,保护层5用来防止导电层4氧化。覆膜完成之后,然后对黑色层3、导电层4和保护层5进行蚀刻,形成网格线,网格线分为两个方向,分为第一方向和第二方向,网格线之间相交,网格线之间的间隙形成网格单元为透明区,网格单元为四边形。当本实施例中的透明导电膜与显示屏配合使用时,显示屏在保护层5的外侧,肉眼从第一表面朝向第二表面观察,在透光方向上,导电层4和保护层5的投影均投射到黑色层3上,肉眼将看不到导电层4和保护层5的网格状图案。当本实施例中将导电层4的厚度设定为2um,金属网格线的线宽为4-5um,线距为300_500um,此时的面电阻的数值在10欧姆左右,当基材I使用的是1.1mm厚的普通玻璃时,透光率能够达到90%左右。实施例2: 本专利技术实施例2提供了另一种透明导电膜,本实施例与实施例1相比,将保护层5换成黑色层3,黑色层3也能起到防止氧化的功能,这样,肉眼也能够从另一侧进行观察。本领域的技术人员容易理解,以上所述仅为本专利技术的较佳实施例而已,并不用以限制本专利技术,凡在本专利技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本专利技术的保护范围之内。【权利要求】1.一种透明导电膜,其特征在于,包括: 基材,包括第一表面和第二表面,第一表面和第二表面相对设置; 所述第二表面镀覆有网格线层,网格线层中的网格线之间形成的网格单元为透明区,网格线层包括: 黑色层,成形于第二表面,其为金属氧化物层, 导电层,其为金属层, 保护层,其为金属合金层,防止导电层氧化。2.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述网格线层中的网格线分别沿着第一方向和第二方向布设,第一方向和第二方向相交,透明区为四边形。3.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述第二表面和黑色层之间还成形有底层,底层为SiO2层。4.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述黑色层可以代替所述保护层。5.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述导电层中的金属为铜。6.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述导电层的厚度为0.5-5um。7.根据权利要求1或4所述的透明导电膜,其特征在于,所述黑色层中的金属氧化物为氧化铬、氧化镍的混合物,黑色层的厚度为40nm-100nm。8.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述保护层中的金属合金为铜镍合金或不锈钢,保护层的厚度为20nm-500nm。9.根据权利要求1所述的透明导电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明导电膜,其特征在于,包括:基材,包括第一表面和第二表面,第一表面和第二表面相对设置;所述第二表面镀覆有网格线层,网格线层中的网格线之间形成的网格单元为透明区,网格线层包括:黑色层,成形于第二表面,其为金属氧化物层,导电层,其为金属层,保护层,其为金属合金层,防止导电层氧化。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王立新
申请(专利权)人:苏州胜利光学玻璃有限公司
类型:发明
国别省市:

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