一种单晶炉副室清扫装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种单晶炉副室清扫装置，包括由一对钳柄和钳臂构成的夹钳，两个钳臂的顶端各固定有一个半圆形的夹盘，且两个夹盘的开口相对设置。本实用新型专利技术整体上采用钳形结构，可以对单晶炉副室进行上下360度全面清理，可以清扫原来上下单一推拉、擦拭时不易清扫的地方，提高了副室清扫质量，降低了正常拉晶作业过程中杂质掉落造成卡棱的可能性，有效的提高了晶体生长的一次成晶率。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种单晶炉副室清扫装置，包括由一对钳柄（1）和钳臂（2）构成的夹钳；其特征在于：所述两个钳臂（2）的顶端各固定有一个半圆形的夹盘（4），且两个夹盘（4）的开口相对设置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘英江，王江山，李广哲，
申请(专利权)人：宁晋晶兴电子材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：