【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
甲苯传感器敏感材料二苯砜基介孔二氧化硅的制备方法,其特征在于,具有以下制备工艺和步骤:a.?首先制备氰基功能化的介孔二氧化硅:将各物质摩尔比为:?2?氰乙基三乙氧基硅烷?(CTES):正硅酸乙酯?(TEOS):?聚环氧乙烷?聚环氧丙烷?聚环氧乙烷三嵌段共聚物(P123):盐酸(HCl):?水=?0.2:0.8:0.017:5.85:162.68的比例混合,然后在35~42°C混合搅拌24?h后装入聚四氟乙烯釜内与60~90°C?晶化24?h,?冷却到室温后过滤,并用去离子水洗涤至中性,60°C~100°C干燥24h,?最终得到氰基功能化的介孔二氧化硅;b.?将上述制得的氰基 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:徐甲强,钱娜娜,段智明,程知萱,向群,
申请(专利权)人:上海大学,
类型:发明
国别省市:
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