多腔室基片处理设备制造技术

本文公开了一种用于有效地传送基片的基片传送机器人、一种利用该基片传送机器人的多腔室基片处理设备、以及一种用于控制该设备的方法。该基片传送机器认包括基片保持器、使得该基片保持器能够进行三维运动的多个机械臂、以及设置在多个机械臂的任何一个上的装载吸盘，该装载吸盘从基片上方的位置吸附或保持基片。

【技术实现步骤摘要】
多腔室基片处理设备
本专利技术主要涉及一种用于传送基片的机器人、一种利用该基片传送机器人的多腔室基片处理设备、以及一种用于控制该设备的方法。更特别地，本专利技术涉及一种用于有效地传送基片的基片传送机器人、一种利用该基片传送机器人的多腔室基片处理设备、以及一种用于控制该设备的方法。
技术介绍
在半导体制造过程中，将所需的材料沉积在基片上的薄膜沉积过程通常分为物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。这里，CVD是这样一种方法，其中，将工艺气体供给至反应室，并且工艺气体随后在有热或等离子体参与的情况下经历化学反应，由此使膜沉积在基片上。同时，金属有机化学气相沉积(MOCVD)是这样一种方法，其中，将有机金属化合物用作前体(precursor)并利用运载气体将有机金属化合物供给至反应室，以在受热的基片表面上形成有机金属化合物薄膜。一种用于执行沉积或蚀刻过程的常规的基片处理设备通常构造成将单个基片装载到反应室中，并对该基片进行处理。然而，近来，利用半序批(semi-batch)式的基片处理设备，其中，在反应室的基座中设置有多个基座凹处，并且将多个基片装载到相应的基座凹处中以同时进行处理本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基片传送机器人，包括：基片保持器；多个机械臂，所述多个机械臂使所述基片保持器能够进行三维运动；以及装载吸盘，所述装载吸盘设置在所述多个机械臂中的任何一个上，所述装载吸盘从所述基片上方的位置吸附或保持所述基片。

【技术特征摘要】
2012.04.26 KR 10-2012-00440641.一种基片处理设备，包括：盒子，基片叠置在所述盒子中；基片对准器，所述基片对准器用于使所述基片中的每个以预定方向对准；至少两个反应室，所述反应室包括设置有多个基座凹处的基座；以及基片传送机器人，所述基片传送机器人用于在所述盒子、所述基片对准器、与分别设置在所述至少两个反应室中的所述基座凹处之间传送所述基片中的每个，其中，所述基片传送机器人包括：基片保持器，所述基片保持器用于将所述基片中的每个从所述盒子传送至所述基片对准器；装载吸盘，所述装载吸盘用于从所述基片上方的位置吸附或保持通过所述基片对准器对准的所述基片，并用于将所述基片传送至相关...

【专利技术属性】
技术研发人员：柳锺贤，洪思仁，曹周铉，徐炯权，崔珉镐，
申请(专利权)人：塔工程有限公司，
类型：发明
国别省市：