【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种硬掩膜层结构，包括金属硬掩膜层，其特征在于，所述金属硬掩膜层为氮化亚铜。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：符雅丽，张海洋，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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