喷淋头以及气相沉积设备制造技术

技术编号:9194439 阅读:146 留言:0更新日期:2013-09-25 23:26
本发明专利技术公开了一种喷淋头以及气相沉积设备,所述气相沉积设备包括所述喷淋头。本发明专利技术中将所述喷淋头的出气面设置为光滑表面,使其具有很高的平整度,从而使得喷淋头的出气面附着附着物的能力大大降低,使得反应过程中刚在喷淋头的出气面形成的小颗粒的附着物就脱离所述喷淋头的出气面下落,而由于此时附着物的尺寸很小,在下降的过程中来自加热器的热量会使得附着物分解,重新形成气态,对衬底的生长膜层不会产生影响,这也就大大的降低了杂质微粒形成的可能性,提高了成膜质量和工艺良率。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于外延沉积III?V材料的喷淋头,所述喷淋头包括一出气面,所述喷淋头用于向所述出气面下方的区域引入反应气体,其特征在于,所述喷淋头的出气面为光滑表面,所述出气面的表面粗糙度Ra≤0.1μm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:林翔丁大鹏
申请(专利权)人:光垒光电科技上海有限公司
类型:发明
国别省市:

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