包含环戊烷基团的液晶制造技术

本发明专利技术提供液晶化合物以及包含所述液晶化合物的混合物。本发明专利技术的液晶化合物通常包括环戊烷基团和至少两个其他环。在一个实施方案中，本发明专利技术的液晶化合物包含环戊烷基团和至少两个其他环，其中之一是稠环系统。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种具有正介电常数的液晶混合物，包含如下化合物：式I其中R选自H和未取代或取代的各自含有1?12个碳原子的烷基，其中所述取代基独立地为一个或多个卤素或CN，其中所述烷基的一个或多个CH2基团可独立地被?O?、?S?、?CO?、?CO?O?、?O?CO?、?O?CO?O?或?CH＝CH?代替，前提是除了所列基团中允许的以外，杂原子不直接连接；A和B各自独立地选自：1，4?环己基，其中一个CH2或两个未直接连接的CH2可由O或S代替；1，4?环己烯基；哌啶?1，4?二基；1，4?亚二环[2，2，2]辛基；1，4?苯基，其可被一个或多个卤素取代；吡啶?5，2?二基；嘧啶?5，2?二基；萘?2，6?二基；反式十氢化萘?2，6?二基；四氢化萘?2，6?二基；1，2?二氢化茚；茚；菲基和二苯并呋喃，其各自在每种情况下都可独立地被一个或多个卤素和/或一个或多个X1?X4取代基独立取代；Z1为单键或未取代或取代的C1?7亚烷基，其中取代基独立地为一个或多个卤素或CN，其中所述烷基的一个或多个CH2基团可独立地被?O?、?S?、?CO?O?、?O?CO?、?O?CO?O?或?CH＝CH?代替，前提是除了所列基团中允许的以外，杂原子不直接相互连接；Z2和Z3各自独立地选自：单键、?(CH2)2?、?(CH2)4?、?CH＝CHCH2CH2?、?CH2CH2CH＝CH?、CF2O、OCF2、CF2CF2、CF＝CF、CH2CF2、CF2CH2、OCF2CF2O、C2H4CF2O、CH2CF2OCH2、CH2OCF2CH2、OCF2C2H4、C3H6O、OC3H6、C2H4OCH2、CH2OC2H4、CH2O、OCH2，?CH＝CH?、?C≡C?和COO；n、m和K各自独立地为0、1或2，并且m+K+n≥2；X1、X2、X3和X4各自独立地选自：H、F、Cl、CF3、CHF2、OCF3、OCF2H和CN；Y独立地选自：H、F、Cl、CN、NCS、OCHF2、CHF2、OCF3、OCF2CF3、CF3、C1?20烷基、C1?20烷氧基、C1?20烯基和C1?20烯氧基，其中所述烷基、烷氧基、烯基、烯氧基可独立地被一个或多个卤素取代；?其中式1中的一个或多个氢原子可被氘代替；前提是当R＝H并且Y含有少于两个碳原子以及X3、X4为H时，或者当R＝H并且Y含有两个或更多个碳原子以及Z1含有多于三个碳原子时，所述化合物中必须有稠环系统，或者Z1、Z2和Z3之一必须选自：C1?C3亚烷基、?CH＝CHCH2CH2?、?CH2CH2CH＝CH?、CF2O、OCF2、CF2CF2、CF＝CF、CH2CF2、CF2CH2、OCF2CF2O、C2H4CF2O、CH2CF2OCH2、CH2OCF2CH2、OCF2C2H4、C3H6O、OC3H6、C2H4OCH2、CH2OC2H4和?CH＝CH?；并且前提是当R不为H并且Y不含有?CF2?基团时，A和B的任一个选自：1，4?环己烯，其中一个或两个不直接连接的CH2基团的可被O或S代替；吡啶?5，2?二基；嘧啶?5，2?二基；1，2?二氢化茚；茚；菲基和二苯并呋喃；或者Z1，Z2和Z3之一必须选自：?(CH2)4?、?CH＝CHCH2CH2?、?CH2CH2CH＝CH?、CF2O、OCF2、CF2CF2、CF＝CF、CH2CF2、CF2CH2、OCF2CF2O、C2H4CF2O、CH2CF2OCH2、CH2OCF2CH2、OCF2C2H4、C3H6O、OC3H6、C2H4OCH2、CH2OC2H4、?CH＝CH?和?C≡C?。405880dest_path_image001.jpg...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：X·陈，A·R·兰迪，
申请(专利权)人：晶美晟光电材料南京有限公司，
类型：发明
国别省市：