一种用于制造有机发光显示器的掩模板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于制造有机发光显示器的掩模板，其包括平面板及形成在平面板上的窗口，所述窗口为矩形结构，所述窗口整体构成矩形阵列，并且至少有一个矩形窗口的一个内壁所在平面与掩模板所在的平面方向为非垂直结构，所述窗口为蒸镀源一侧开口大、另一侧开口小的窗口结构；此种结构在蒸镀过程中不出现可能存在的死角，可以完全避免现有结构对沉积均匀性造成的影响，对产品的质量提升有极大的帮助。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种掩模板，具体涉及一种用于有机发光显示器像素蒸镀用的掩模板。
技术介绍
与现行IXD技术相较，利用有机发光二级管(OLED)技术所制成的显示器不仅具有可全彩化、反应时间快、高亮度(10(Tl4，000cd/m2)、高流明效率(16 381m/W)、170度以上的视角、无一般LCD残影、可制作成大尺寸与可挠曲性面板、能够在摄氏-30度 80度的范围内作业等优势，而且制程简单，整体厚度也能缩小至Imm以下，成本更仅有TFT-1XD的3(Γ40%。因此，利用OLED技术所制成的显示器在深得社会欢迎。在有机发光显示器的制造过程中，其中有机层的沉积会使用到掩模板，图1所示为掩模板的平面示意图，掩模板为整版结构(图中所示)或为多块拼接而成(图中未示出，所谓拼接即是掩模板由若干相对小的单元模板拼接成大尺寸的掩模板)，掩模板10上设置有与有机发光显示器上像素点相对应的窗口 100，窗口口 100—般在掩模板10上为阵列结构，且其尺寸由有机发光显示器的尺寸决定。掩模板10通过激光焊接或超声波焊接等工艺实现与掩模外框11的连接。图2所示为采用掩模板蒸镀有机材料的示意图。掩模板10由于比较薄，在蒸镀前会通过相关工艺固定在掩模外框11上，蒸镀时，掩模板10借助掩模外框11固定在支撑台12上，蒸镀源13中的有机材料130通过蒸发扩散至掩模板10下方，然后通过窗口 100沉积在基板14上对应的位 置处，形成有机层。传统的掩模板的窗口截面形貌设置为图3所不的几何结构(图3为图2中A部分的放大示意图)，即窗口的内壁与板面呈垂直关系，使得窗口 100下方(即靠近蒸镀源13的一面)的角1000会对有机材料130进入窗口 100内部产生阻碍，如图3所示，从而影响有机材料在基板14上的沉积均匀性，从而使得有机发光显示器的品质不高。为解决以上问题，行业现行工艺是其对存在以上问题的窗口进行了如图5所示的设计，即将掩模板窗口内壁设置为两头倒锥的结构，即窗口存在倒角结构1001及倒角结构1002。通过分析了解到，如此设计是基于蚀刻工艺来制作掩模板，上部的倒角结构1001是蚀刻工艺无法避免的一种缺陷，此倒角结构1001在一定程度上构成死角，依旧影响有机材料在基板上的沉积均匀性。基于此，业界亟需一种更优异的掩模板来满足高品质有机发光显示器的蒸镀工艺。
技术实现思路
有鉴于此，需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本技术提供了一种用于制造有机发光显示器的掩模板，其包括平面板及形成在平面板上的窗口，其特征在于:所述窗口为矩形结构，所述窗口整体构成矩形阵列，并且至少有一个矩形窗口的一个内壁所在平面与掩模板所在的平面方向为非垂直结构，所述窗口为蒸镀源一侧开口大、另一侧开口小的窗口结构。根据本技术
技术介绍
中对现有技术所述，现有技术中掩模板上的开口截面与掩模板上下两平面为垂直结构或两个倒锥结构的组合，具有垂直结构的掩模板会对蒸镀源挥发的材料在基板上的沉积均匀性造成影响，而具有倒锥结构组合的掩模板不仅会对蒸镀源挥发的材料在基板上的沉积均匀性造成影响，在一定程度上形成蒸镀死角，而且这种结构也是基于蚀刻工艺无法避免的一种缺陷，因此必须寻找一种新的结构来避免对蒸镀源挥发的材料在基板上的沉积均匀性造成影响，本技术采用的结构为采用激光工艺切割而成，所述窗口为矩形结构，所述窗口整体构成矩形阵列，并且至少有一个矩形窗口的一个内壁所在平面与掩模板所在的平面方向为非垂直结构，所述窗口为蒸镀源一侧开口大、另一侧开口小的窗口结构，此种结构不具有蒸镀过程中可能存在的死角，可以完全避免上述几种结构对沉积均匀性造成的影响，对产品的质量提升有极大的帮助。另外，根据本技术公开的用于制造有机发光显示器的掩模板还具有如下附加技术特征:进一步地，所述掩模板是通过激光工艺切割制作而成。进一步地，所述窗口的四个内壁所在平面均与所述掩模板所在的平面方向为非垂直结构。可选地， 所述窗口的四个内壁所在平面与掩模板所在的平面方向构成的角度均相等，如图6所示，α =β。可选地，所述窗口的四个内壁所在平面均与掩模板所在的平面方向构成的角度存在部分不相等，如图6所示，S卩α不等于β。进一步地，所述窗口内壁与掩模板所在的平面方向所呈的夹角范围为20° 70。。进一步地，所述窗口内壁与掩模板所在的平面方向所呈的夹角范围为30° 60。。进一步地，所述窗口内壁与掩模板所在的平面方向所呈的夹角范围为40° 50。。优选地，所述窗口内壁与掩模板所在的平面方向所呈的夹角为45°。可选地，所述窗口的四个角具有倒角。同时,所述窗口的大小与相应有机发光显不器的大小相适应。可选地，所述掩模板还包括用于固定用的掩模外框。以上所述掩模板的结构特征是在理想状况下的结构，由于制作本身工艺的精度问题，实际产品的的板面、窗口的内壁可能达不到绝对的平面，故在不违背本技术的核心内容而刻意作出的修改依旧落在本技术的保护范围内。通过提供以上所述掩模板，其不存在有机材料蒸镀时的死角区域，从而使得有机材料更均匀的沉积在基板上，形成质量优异的有机发光显示器。本技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从以下结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中:图1所示为掩模板的平面示意图(现有技术)；图2所示为采用掩模板蒸镀有机材料的示意图(现有技术)；图3所示为图2所示掩模板中A部分的平面放大示意图(现有技术);图4为一种改进的窗口示意图(现有技术)；图5为本技术掩模板的窗口截面一种实施例的示意图；图6为本技术所述掩模板一个窗口在蒸镀时的示意图；图7本技术一种实施例一个窗口的俯视图；图8本技术一种实施例一个窗口的仰视图；图9本技术一个实施例掩模板整体的仰视图。其中，掩模板10 ，窗口 100，，掩模外框11，支撑台12，蒸镀源13，有机材料130，基板14，角1000，倒角结构1001、1002，内壁所在平面与掩模板所在的平面方向构成的角度α、β 0具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能解释为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“底”、“顶”、“前”、“后”、“内”、“外”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“联接”、“连通”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，一体地连接，也可以是可拆卸连接；可以是两个元件内部的连通；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。本技术的技术构思如下，现有技术中掩模板上的开口截面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制造有机发光显示器的掩模板，其包括平面板及形成在平面板上的窗口，其特征在于：所述窗口为矩形结构，所述窗口整体构成矩形阵列，并且至少有一个矩形窗口的一个内壁所在平面与掩模板所在的平面方向为非垂直结构，所述窗口为蒸镀源一侧开口大、另一侧开口小的窗口结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：魏志凌，
申请(专利权)人：昆山允升吉光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：