半导体装置和显示装置制造方法及图纸

技术编号:9089298 阅读:147 留言:0更新日期:2013-08-29 02:40
本发明专利技术的半导体装置(100)为具有薄膜晶体管(10)的半导体装置,包括:形成在基板(60)之上的薄膜晶体管(10)的栅极电极(62);形成在栅极电极(62)之上的栅极绝缘层(66);形成在栅极绝缘层(66)之上的氧化物半导体层(68);和配置在氧化物半导体层(68)之上的源极电极(70s)和漏极电极(70d);形成在氧化物半导体层(68)、源极电极(70s)和漏极电极(70d)之上的保护层(72);形成在保护层(72)之上的供氧层(74);和形成在供氧层之(74)之上的扩散防止层(78)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:守口正生神崎庸辅高西雄大楠见崇嗣松木园广志
申请(专利权)人:夏普株式会社
类型:
国别省市:

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