用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供用于低折射层的含有下面化学式1的含氟化合物的涂覆组合物、使用该组合物的抗反射膜，以及含有该抗反射膜的偏光片与图像显示装置，其中下述化学式1的含氟化合物具有低的折光率1.28-1.40，从而能够容易地调节抗反射膜的折光率，并且有效地用作抗反射膜的涂层材料，该反射膜具有优异的机械性能例如耐久性等。[化学式1]

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于低折射层的涂覆组合物，其含有化学式1表示的含氟化合物[化学式1]在化学式1中，R1?R4各自独立地为氢、(C1?C20)烷基或(C6?C20)芳基，且R1和R2不同时为氢；m和n各自独立地为2?10的整数；A、B、D和E各自独立地为氢、氟或(C1?C4)烷基，前提是氟含量占A、B、D和E的总原子含量的50%或更多；以及R1?R4的烷基和芳基可进一步被氟取代。FDA00002357736500011.jpg

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：孙晟豪，金润凤，张元硕，赵容均，
申请(专利权)人：SK新技术株式会社，
类型：发明
国别省市：