【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种减轻边缘效应的方法，其特征在于，包括如下步骤：S10：在金属掩模板原有大开口干膜图形内，曝光出一个环形区域，形成一个辅助小开口；S11：通过显影将环形区域内部的未曝光干膜洗去，暴露出芯模表面，在环形内部的芯模上也沉积上金属材料。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：魏志凌，高小平，
申请(专利权)人：昆山允升吉光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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