一种提高近红外高反膜激光损伤阈值的镀制方法技术

本发明专利技术涉及一种提高近红外高反膜激光损伤阈值的镀制方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对近红外激光高反膜中限制阈值的瓶颈——节瘤。当前的技术手段主要通过消除节瘤，即降低节瘤密度和尺寸来提升薄膜的阈值。但在当前技术条件下，消除节瘤需要耗费巨大的成本，而且无法完全消除。本发明专利技术提出了一种直接改善节瘤阈值从而提升薄膜阈值的方法。理论和实践已经证明，镀膜工艺决定了节瘤的几何特性，而节瘤的几何特性与抗激光损伤特性息息相关。通过加大薄膜分子在基板沉积的入射角，降低入射分子的沉积动能，可以使得节瘤的阈值得到明显改善。此方法具有针对性强、效率高、简单易行的特点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于薄膜光学领域，具体涉及一种提高近红外纳秒激光用高反射薄膜激光损伤阈值的镀制方法。
技术介绍
在强激光系统中，近红外高损伤阈值高反膜是强激光系统中关键元件之一，也是大激光装置设计中关键因素之一，其损伤阈值及损伤特性是限制强激光系统性能进一步改善的重要瓶颈，也是直接影响激光系统稳定性和使用寿命的重要因素之一。大量针对近红外激光高反膜损伤机制的理论和实验研究表明，对于纳秒激光而言，限制高反膜损伤阈值的最关键因素是节瘤。一般认为，节瘤的存在，会改变驻波场的分布，使局部电场强度变大，引起局部辐照能量变大，过强的激光辐照，会导致节瘤本身的结构不稳定性加剧，从而引起破坏。此外，节瘤本身的倒圆锥结构，会加大光入射的角度，在大角度入射的情况下，因为薄膜的反射带宽有限，会造成部分入射光由高反射变成透射，从而加剧了薄膜的破坏，降低了薄膜的阈值。而造成节瘤的种子源主要有两种来源。一是镀膜前的基板污染，通过合理细致的过程控制，可以将这部分的污染降至最低，在高反膜中甚至可以忽略；二是蒸镀过程中的膜料喷溅。当前研究人员的重点是尽可能消除节瘤，尽可能降低节瘤的密度，并使节瘤尽可能的小，以提高薄膜的阈本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提高光学薄膜激光损伤阈值的镀制方法，其特征在于具体步骤如下：(1)将基板清洗干净，然后利用高纯氮气吹干后放入镀膜机内；(2)控制镀膜机内真空室的本底真空度为1×10?3Pa～3×10?3Pa，将基板加热至200度，并恒温80分钟；(3)?固定基板与蒸发源HfO2和SiO2的相对位置，采用电子束交替蒸发HfO2和SiO2；控制蒸镀时的氧分压为1.0E?2Pa～3.0E?2Pa，速率为0.05nm/s～0.3nm/s；(4)待真空室内温度自然冷却至室温后取出镀制好的样品。

【技术特征摘要】
1.一种提高光学薄膜激光损伤阈值的镀制方法，其特征在于具体步骤如下: (1)将基板清洗干净，然后利用高纯氮气吹干后放入镀膜机内； (2)控制镀膜机内真空室的本底真空度为1\10_午& 3父10，&，将基板加热至200度，并恒温80分钟； (3)固定基板与蒸发源HfO2和SiO2的相对位置，采用电子束交替蒸发HfO2和SiO2;控制蒸镀时的氧分压为1.0E-2Pa 3.0E-2Pa,速率为0.05nm/s 0.3nm/s ； (4...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲍刚华，程鑫彬，宋智，焦宏飞，王占山，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：