【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学薄膜，具体涉及一种氧化铝薄膜的制备方法。
技术介绍
由于半导体工业和激光材料加工工业的发展，导致了对应用于紫外波段尤其是远紫外-真空紫外(DUV-VUV)波段的优质高能光学元件的需要急剧上升。而这些元件多数为镀膜后使用，因此紫外波段薄膜元件性能的优化提高面临着新的挑战。波长越短，可用的镀膜材料越少，特别是高折射率的镀膜材料。在DUV波段甚至在低于200nm的波段，氧化铝材料作为一种最常用的高折射率材料广泛应用于多层介质反射膜中。氧化铝薄膜的光学特性强烈依赖于镀膜工艺条件及杂质污染等其它因素，要想得到高光学性能的薄膜首先要减少薄膜的光学损耗。 为克服光学薄膜的损耗问题，国际上采用各种能量辅助沉积方法来沉积薄膜，如溅射、离子镀、离子辅助等方法。尽管如此，减少薄膜的光学损耗仍然是一个难题。经典的电子束热蒸发方法仍然是比较好的氧化铝薄膜的镀膜技术，不过采用该方法沉积的氧化铝薄膜容易出现失氧及结构疏松等情况。为得到致密的低损耗的膜层，人们往往会采用反应蒸发或离子辅助技术来沉积薄膜，但附加的辅助气体和离子源又会带入新的污染从而使吸收损耗增加，而且对镀膜机的...
【技术保护点】
低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法，其特征在于，首先将基片在石油醚和温水的混合溶液中进行超声波清洗，再用石油醚经过仔细擦洗；然后将基片放入真空室内，采用电子束热蒸发方法进行镀膜，沉积温度为300℃?350℃，工作真空度为3.5×10?3Pa?7.5×10?3Pa，残余气体为空气。
【技术特征摘要】
1.低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法，其特征在于，首先将基片在石油醚和温水的混合溶液中进行超声波清洗，再用石油醚经过仔细擦洗；然后将基片放入真空室内，采用电子束热蒸发方法进行镀膜，沉积温度为300°c -350 °C,工作真空度为3.5X10_3Pa-7.5X l(T3Pa，残余气体为空气。2.根据权利要求1所述的低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法，其特征在于:最后采用镀膜后退火处理技术对沉积的薄膜进行后处理，退火炉中的气体为空气。3.根据权利要求1所述的低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法，其特征在于:超声波清洗时间为1-2分钟，石油醚擦洗在超净室或超净台上进行。4.根据权利要求1所述的低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法，其特征在于:所述基片采用紫外级石英，反射膜采用普通K9玻璃基片。5.根据权利要求1所述的低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法，其特征在于:镀膜材料的纯度在99.9%以上。6.根据权利要求1所述的低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法，其特征在于:退火温度为300°C -400°C，退火时间为l_5h，退火时采用缓慢升温与降温的方式，退火炉中的气体为空气。7.根据权利要求1-6中任意一项所述的低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法，其特征在于:所述的光学薄膜为氧化铝薄膜或包含氧化铝膜层的反射膜。8.根据权利要求7所述的低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法，其特征在于:在DMD-450型真空物理气相沉积镀膜系统，采用电...
【专利技术属性】
技术研发人员：陶春先，尚淑珍，卢忠荣，赵曼彤，张大伟，倪争技，
申请(专利权)人：上海理工大学，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。