一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法技术

本发明专利技术提供一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法，包括以下步骤：1)准备原材料以及摩尔配比；2)将混合均匀的粉料加入坩埚中并熔融；3)玻璃液降温后，将其注入模具中成型；4)将玻璃进行退火；即得到高损伤阈值的基频光吸收玻璃。本发明专利技术解决了光栅、分光膜、分光棱镜在强激光下分光的损伤问题，提高激光器的负载能力，在近紫外波段高透，具很好的成玻性能，同时材料还具有高的激光损伤阈值，可作为基频光吸收材料用于强激光领域。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：1】准备原材料，其中原材料各组分的配比如下：玻璃组分????摩尔百分数mol%AlF3：?????????31～35BaF2：?????????20～30MgF2???????????10～15SiO2???????????21～27Y2O3：?????????3～4.5FeO：??????????2～4各组分配比之和为100%，根据以上摩尔配比计算出原材料各组分的质量，称取原材料各组分，混合均匀成粉料；2】将混合均匀的粉料加入坩埚中，通过电熔炉加热熔融，熔制温度控制在1050?1150℃，并不断搅拌；3】待熔融得到完全澄清的高温玻璃液且降温至900?950℃时，将高温玻璃液注入到已经预热好的模具中成型；4】将成型的玻璃模具立刻放入马弗炉中，以10℃/小时速率进行退火，直到温度降到50℃，关闭马弗炉，降温至室温，最后取出成品，即得到高损伤阈值的基频光吸收玻璃。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：侯超奇，彭波，陆敏，王鹏飞，高飞，李玮楠，
申请(专利权)人：中国科学院西安光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：