减反射膜及其制备方法技术

减反射膜,包括膜，该膜包括：中空颗粒；和将该颗粒粘结的粘结剂，其中：该粘结剂含有空隙；并且相对于该粘结剂的1μm2的截面面积，该粘结剂含有10个以下的均具有1,000nm2以上的截面面积的空隙。该膜的制备方法，包括：通过将涂料涂布到基材上而将该涂料形成膜，该涂料含有中空颗粒、粘结剂和溶剂，其中该颗粒的含量为50-85wt%，该粘结剂的含量为15-40wt%，相对于该涂料的固体成分的总重量，并且在其成膜温度下该涂料具有1.3-2mPa·s的粘度；和将该膜干燥。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有良好的抗磨损性和良好的透明性的减反射膜和该减反射膜的制备方法。
技术介绍
为了抑制在光学器件的光入射和射出界面处的光反射，以往已知通过将各自具有不同折射率的单层或多层光学膜层叠来形成减反射膜以使该减反射膜具有几十至几百纳米的厚度。为了形成这样的减反射膜，使用真空成膜法例如气相沉积或溅射或者湿式成膜法例如浸涂或旋涂。已知作为用于形成减反射膜的最外层的材料，使用具有低折射率的透明材料，其选自无机材料例如二氧化硅、氟化镁和氟化钙以及有机材料例如有机硅树脂和无定形氟树脂。近年来，已知为了 实现较低的反射率，将利用了空气的折射率1.0的低折射率膜用于减反射膜。通过在层中形成空隙，能够使二氧化硅或氟化镁的层的折射率减小。例如，通过在其中形成占薄膜的体积的30%的空隙，氟化镁的薄膜的折射率，即1.38能够减小到1.27。已知通过采用形成空隙的方法来设置具有低折射率的减反射膜，该形成空隙的方法包括用粘结剂将二氧化硅或氟化镁的细颗粒形成为膜和在该细颗粒之间的粘结剂中形成空隙(专利文献I和2)。而且，作为另一个形成空隙的方法，已知包括通过使用中空二氧化硅颗粒而在颗粒中形成空隙的方法。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：大金政信，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：
国别省市：