对用于磁记录介质的玻璃基片的边缘表面进行抛光的设备及制造玻璃基片的方法技术

提供一种对用于磁记录介质的玻璃基片的边缘表面进行抛光的设备及制备用于磁记录介质的玻璃基片的方法，对要用作硬盘的基片的玻璃基片，不需要额外操作就能提高质量和产率。在用玻璃基片２制造硬盘的过程中，对玻璃基片外边缘表面要求算术平均粗糙度（Ｒａ）最多为１００ｎｍ，以这样的粗糙度，可以用磨石进行高产率的抛光。此外，因为可以进行这样的进行抛光，通过采用片处理，可提高产率。通过试样树脂构成的磨石４可以稳定加工边界，可以使单独玻璃基片的尺寸精度变化最小。树脂构成的磨石４是具有槽４Ａ的成形磨石，形成的槽４Ａ能同时抛光玻璃基片２的外边缘表面２Ａ以及在该玻璃基片两面上的倒角２Ｂ和２Ｃ。提高试样如树脂磨石４这样的成形磨石，能够同时抛光玻璃基片２的外边缘表面２Ａ及该玻璃基片的两面上的倒角２Ｂ和２Ｃ，因而进一步提高了产率和质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。具体而言，本专利技术涉及对用于磁记录介质的玻璃基片的边缘表面进行抛光的设备和制造玻璃基片的方法，所述设备和方法设计为对由玻璃基片作为原料构成的硬盘用玻璃基片的外边缘表面进行抛光。
技术介绍
近年来，作为要安装在个人电脑、各种信息记录装置等中的硬盘用基片，人们一直关注的是由具有极好的平面度以及基片强度的玻璃制成的基片，而不是由Al(铝)构成的基片。这种硬盘用玻璃基片被加工成圆环类型的圆形，在这样加工成圆形后，其外边缘表面需用磨石如电沉积的磨石进行倒角。然而，这样倒角后的外边缘表面的表面粗糙度用算术平均粗糙度(Ra)表示约为200nm，存在的问题是如果将玻璃基片以这样的状态转移到用于制造硬盘的加工步骤中，则当玻璃基片与传输用的盒子或各种夹具接触时，很可能在玻璃基片的边缘表面形成粉尘颗粒，从而导致生产缺陷。此外，对这种粗糙表面，清洗效率较差，存在的缺陷是难以除去外边缘表面上的污垢或瑕疵，因此导致污染型的缺点。专利文献1公开一种对玻璃基片进行抛光的设备，其中，在对玻璃基片的外周边边缘表面进行抛光时，将多块玻璃基片层叠，并通过一个穿过各玻璃基片中心孔的轴加上套管，用旋转驱动本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对用于磁记录介质的玻璃基片的边缘表面进行抛光的设备，其特征在于，通过将用于磁记录介质的玻璃基片的外边缘表面和／或内边缘表面压向由树脂制成的磨石，来对所述外边缘表面和／或所述内边缘表面进行抛光，使得所述外边缘表面和／或所述内边缘表面的算术平均粗糙度（Ｒａ）最多为１００ｎｍ，其中，所述磨石通过将磨粒混入树脂中制成。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：千田昌平，金子正己，駒木根光彦，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]