成膜方法和成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够高效地进行防污膜的成膜的成膜装置，该防污膜不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。其是基板支架12可旋转地配设在真空容器10内的成膜装置1，所述基板支架12具有用于保持2个以上基板的基体保持面，成膜装置1的构成为具有蒸镀源34和离子源38，其中，所述蒸镀源34按照如下构成配置在真空容器10内：使其向旋转停止时的基板支架12工作的情况下，能够对所述基体保持面的部分区域即第1区域(A3)供给比该第1区域以外的其他区域(残余区域)更多量的成膜材料；所述离子源38按照如下构成、配置和/或朝向设置在所述真空容器10内：使其向旋转停止时的基板支架12工作的情况下，能够仅向着该基体保持面的部分区域即第2区域(A2)照射能量粒子。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】成膜方法和成膜装置
本专利技术涉及特别适于光学薄膜及功能性薄膜等的各种成膜的成膜方法和成膜装置。
技术介绍
在用于光学透镜及滤光器等光学材料中的光学薄膜(包括防反射膜)的领域中，其光学特性稍有降低就会导致作为最终产品的特性显著降低。因此，对光学薄膜期望其光学特性(例如光透过率等)得到提高。另外，已知有通过以下所示的工序来对作为功能性薄膜一个示例的防污膜进行成膜的技术(专利文献1)。该方法为如下方法：首先遍及基板支架的基板保持面的全体将作为处理对象的2个以上的基板保持在其上，之后使该基板支架在真空腔室内旋转，接着，在维持该旋转的状态下，向着2个以上基板的全部连续照射离子(离子的全面照射)，之后向着由于离子照射而形成了表面凹凸的基板的全部蒸发由防污膜的形成原料构成的成膜材料并使其附着在基板上(成膜材料的全面供给)，通过以上的工序，可将防污膜堆积在2个以上基板中的全部的凹凸形成面上。若采用该方法，则可进行具备可耐实用的耐磨耗性的防污膜的成膜(专利文献1的段落0029)；但近年来希望对防污膜进一步提高耐磨耗性。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010-90454号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题根据本专利技术的一个方面，提供可进一步提高各种薄膜的各种性能的成膜方法和成膜装置。根据本专利技术的其它方面，提供能够高效地进行光学特性进一步得到提高的光学薄膜的成膜的成膜方法和成膜装置。根据本专利技术进一步的其它方面，提供能够高效地进行耐磨耗性进一步得到提高且具有疏水、疏油、防污等各种特性的功能性薄膜进行成膜的成膜方法和成膜装置。解决课题的手段根据本专利技术的第1方面，提供一种成膜方法，其为使薄膜堆积在基材的表面上的成膜方法，该成膜方法的特征在于，使用基体保持单元和成膜单元，所述基体保持单元具有保持有2个以上的各基体的基体保持面且能够旋转；所述成膜单元按照如下方式配置：使其向旋转停止时的所述基体保持单元工作的情况下，对所述基体保持面的部分区域即第1区域(例如A3)能够供给比该第1区域以外的其他区域(残余区域)更多量的所述薄膜的成膜材料，在使2个以上的各基体保持在所述基体保持面上的状态下使所述基体保持单元旋转的同时，使所述成膜单元持续工作，由此在使所述成膜材料对移动中的全部或部分各基体的供给量随时间变化的同时，使由所述成膜材料构成的所述薄膜堆积。本专利技术中，使薄膜堆积随着基体保持单元的旋转而移动的2个以上的各基体的表面上时，可以通过进行照射能量粒子来对部分供给的成膜材料提供辅助效果。对于能量粒子的照射，在朝着旋转停止时的基体保持单元使能量粒子的照射工作的情况下，能量粒子的照射可以是向着所述基体保持面的全部区域即第3区域(例如A1)的全面照射。但是，本专利技术中，在朝向旋转停止时的基体保持单元进行照射的情况下，优选进行仅向着所述基体保持面的部分区域即第2区域(例如A2)的部分照射。即，根据本专利技术的第2方面提供一种成膜方法，其为使薄膜堆积在基体的表面上的成膜方法，该成膜方法的特征在于，使用基体保持单元、成膜单元和照射单元，所述基体保持单元具有保持有2个以上的各基体的基体保持面且能够旋转；所述成膜单元按照如下方式配置：使其向旋转停止时的所述基体保持单元工作的情况下，对所述基体保持面的部分区域即第1区域(例如A3)能够提供比该第1区域以外的其他区域(残余区域)更多量的所述薄膜的成膜材料；使其向旋转停止时的所述基体保持单元工作的情况下，所述照射单元仅向着所述基体保持面的部分区域即第2区域(例如A2)照射能量粒子，在使2个以上的各基体保持在所述基体保持面上的状态使所述基体保持单元旋转的同时，使所述成膜单元和所述照射单元持续工作，由此在使所述成膜材料对移动中的全部或部分各基体的供给量随时间变化的同时，并且在确保一时地对全部或部分各基体未照射所述能量粒子的时间的同时，使由所述成膜构成的且提供有辅助效果的所述薄膜堆积。本专利技术的照射单元至少作为下述(1)、(2)任一项等使用。优选为至少作为下述(1)来使用。(1)用于在薄膜堆积时提供辅助效果的且与成膜单元的工作一起工作的成膜辅助单元；(2)用于对作为成膜对象的各基体的表面进行清洁的且在成膜单元工作开始前工作的清洁单元。基于本专利技术的第2方面的成膜方法中，被供给成膜原料的第1区域(A3)与被照射能量粒子的第2区域可以是相同配置，所述能量粒子在薄膜堆积时提供辅助效果。另外也可以为其他配置。进一步也能够是一个区域(A2或A3)与另一区域(A3或A2)至少部分重复的配置。“至少部分重复”是指包含一个区域与另一区域的全部重复的情况这样的中心意思。本专利技术中，能够使用加速电压为50V～1500V的能量粒子，和/或能够使用照射电流为50mA～1500mA的能量粒子。本专利技术中，能够使用至少含有氧的能量粒子。作为能量粒子，除了能够使用从离子源照射的离子束外，也能够使用从等离子体源照射的等离子体等。根据本专利技术，提供一种成膜装置，其为将具有用于保持2个以上基体的基体保持面的基体保持单元可绕着垂直轴旋转地配设在真空容器内的成膜装置，该成膜装置具有：成膜单元，按照如下构成而设置在所述真空容器内：使其向旋转停止时的所述基体保持单元工作的情况下，对所述基体保持面的部分区域即第1区域(例如A3)能够供给比该第1区域以外的其他区域(残余区域)更多量的成膜材料；照射单元，按照如下构成、配置和/或朝向设置在所述真空容器内：使其朝向旋转停止时的所述基体保持单元工作的情况下，能够仅向着该基体保持面的部分区域即第2区域(例如A2)照射能量粒子。本专利技术中，能够仅由成膜源而不依赖于校正板等遮蔽板的遮蔽效果来构成成膜单元。该情况下，将成膜源配置在从真空容器内下方的大致中央配置向端侧偏离的位置，使被放出的成膜材料能够对基体保持单元的基体保持面的整个区域即第3区域(例如A1)的一半以下(或者50%以上且小于等于80%)进行供给即可。靠近真空容器内下方的端侧来配置成膜源的情况时，可以将成膜源配置在下述位置：连接成膜源的中心和基体保持单元的外缘的最远点的线相对于沿着作为基体保持单元的旋转中心的垂直轴延长方向的基准线所成角度为40度以上。本专利技术中，照射单元能够按照对基体保持单元的基体保持面的整个区域即第3区域(例如A1)的一半以下(或50%以上且小于等于80%)能够照射能量粒子进行配置的方式配设在真空容器内。本专利技术中，照射单元能够由可以照射加速电压为50V～1500V的能量粒子和/或照射电流为50mA～1500mA的能量粒子这样的照射源来构成，作为照射源，可以举出照射离子束的离子源或照射等离子体的等离子体源等。本专利技术的成膜装置中，被供给成膜材料的第1区域(A3)可以与被照射能量粒子的第2区域(A2)相同配置，另外也可以为其他配置。进一步也可以是一个区域(A2或A3)与其他区域(A3或A2)的至少部分重复的配置。“至少部分重复”是指包含一个区域与另一区域的全部重复的情况这样的中心意思。本专利技术中，进一步具有使基体保持单元旋转的旋转单元，照射单元能够按照从该照射单元照射能量粒子的轴线相对于基体保持单元的旋转轴线具有6度以上且小于等于70度的角度的方式配设在真空容器的内部。本专利技术中，照射单元能够配设在真空容器的侧面侧，并且照射单元能够按照成膜时从保持在基体保持面的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.09.30 JP PCT/JP2011/072586;2012.02.10 JP PCT/1.一种成膜方法，其为在被保持在旋转中的基体保持单元的基体保持面的2个以上的基体的全部基体上堆积光学薄膜的成膜方法，该成膜方法的特征在于，使用成膜单元，对于由对应于被保持在旋转中的基体保持单元的基体保持面的全部基体的一部分的2个以上的基体构成的特定基体组，使得其上附着的所述薄膜的成膜材料的量比该基体组以外的其他基体组上附着的所述薄膜的成膜材料的量更多，并且成膜材料对其他基体组的附着量不为0，和照射单元，仅向由对应于被保持在旋转中的基体保持单元的基体保持面的全部基体的一部分的2个以上的基体构成的特定基体组照射能量粒子，在使2个以上的基体保持在被配置在比所述成膜单元更上侧的所述基体保持面上的状态下，在使所述基体保持单元旋转的同时使所述成膜单元和所述照射单元持续工作，由此，按照成膜材料在单位时间对移动中的全部的基体的至少一部分的附着量的最大值和最小值的比(最大值/最小值)超过5的方式，在使所述成膜材料对移动中的全部或部分各基体的附着量随时间变化的同时，使成膜材料附着在移动中的所有的基体上，并且在确保暂时地对移动中的全部或部分各基体未照射所述能量粒子的时间的同时，对附着在移动中的基体的成膜材料照射能量粒子，使由所述成膜材料构成的且被提供了辅助效果的所述薄膜堆积在所有的2个以上的基体上。2.如权利要求1所述的成膜方法，其特征在于，按照通过所述成膜单元而附着的成膜材料的量比对所述其他基体组附着的成膜材料的量更多的所述特定基体组和通过所述照射单元照射能量粒子的所述特定基体组为不重复的方式进行所述成膜材料的附着和所述能量粒子的照射。3.如权利要求1所述的成膜方法，其特征在于，按照通过所述照射单元照射能量粒子的所述特定基体组与通过所述成膜单元而附着的成膜材料的量比对所述其他特定基体组附着的成膜材料的量更多的所述特定基体组至少部分重复的方式进行所述成膜材料的附着和所述能量粒子的照射。4.一种成膜方法，其为在被保持在旋转中的基体保持单元的基体保持面的2个以上的板状基体的全部基体上堆积功能性薄膜的成膜方法，该成膜方法的特征在于，使用成膜单元，对于由对应于被保持在旋转中的基体保持单元的基体保持面的全部基体的一部分的2个以上的基体构成的特定基体组，所述成膜单元使得其上附着的所述薄膜的成膜材料的量比该基体组以外的其他基体组附着的所述薄膜的成膜材料的量更多，并且成膜材料对其他基体组的附着量不为0，在使2个以上的基体保持在被配置在比所述成膜单元更上侧的所述基体保持面上的状态下，在使所述基体保持单元旋转的同时使所述成膜单元持续工作，由此，按照成膜材料在单位时间对移动中的全部的基体的至少一部分的附着量的最大值和最小值的比(最大值/最小值)超过5的方式，在使所述成膜材料对移动中的全部或部分各基体的附着量随时间变化的同时，使成膜材料附着在移动中的全部基体上，使由所述成膜材料构成的所述薄膜堆积在所有的2个以上的基体上。5.如权利要求1或4所述的成膜方法，其中，使用的成膜单元按照连接成膜单元的中心和基体保持单元的外缘的最远点的线相对于沿着作为基体保持单元的旋转中心的垂直轴延长的垂直方向的基准线所成的角度(θ1)为60度以上的方式来配置。6.如权利要求1或4所述的成膜方法，其特征在于，基体保持单元的旋转速度为3rpm～100rpm。7.一种成膜装置，其为具有用于保持2个以上基体的基体保持面的基体保持单元可绕着垂直轴旋转地配设在真空容器内的成膜装置，该成膜装置具有：成膜单元，其设置在所述真空容器内，其构成为，对于由对应于被保持在旋转中的基体保持单元的基体保持面的全部基体的一部分的2个以上的基体构成的特定基体组，能够使得其上附着的成膜材料的量比该基体组以外的其他基体组附着的成膜材料的量更多，并且成膜材料对其他基体组的附着量不为0；和照射单元，其设置在所述真空容器内，其构成、配置和/或朝向为，能够仅向由对应于被保持在旋转中的基体保持单元的基体保持面的全部基体的一部分的2个以上的基体构成的特定基体组照射能量粒子，所述成膜单元具有设置在所述真空容器内的成膜源，在连接所述成膜源的中心和所述基体保持单元的外缘的最远点的线相对于沿着作为所述基体保持单元的旋转中心的垂直轴延长方向的基准线所成的角度为60度以上的位...

【专利技术属性】
技术研发人员：盐野一郎，林达也，姜友松，长江亦周，宫内充祐，佐守真悟，
申请(专利权)人：株式会社新柯隆，
类型：
国别省市：