【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种离子轰击装置，通过对配置在真空腔内的基体材料的表面照射在所述真空腔内产生的气体离子而进行清洁，其中包括：加热式的热电子释放电极，配置在所述真空腔的一个内侧面，以丝极构成；阳极，配置在所述真空腔的其它内侧面，接受来自所述热电子释放电极的热电子；放电电源，在所述热电子释放电极与所述阳极之间给予电位差而产生辉光放电，所述放电电源和所述真空腔绝缘；加热电源，加热所述热电子释放电极而释放热电子；以及偏置电源，将对所述真空腔而言负的电位给予所述基体材料，所述偏置电源是脉冲电源，在这里，利用所述放电电源、所述加热电源及所述偏置电源能够使在所述基体材料的附近产生的气体离子照射所述基体材料的表面。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：广田悟史，后藤直行，野村誉，
申请(专利权)人：株式会社神户制钢所，
类型：发明
国别省市：
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