本发明专利技术提供可有效地进行防污膜的成膜的成膜装置，该防污膜的耐磨耗性能不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。本发明专利技术的成膜装置(1)为将具有用于保持两个以上基板(14)的基体保持面的基板支架(12)可旋转地配设在真空容器(10)内的成膜装置(1)，其中，该成膜装置(1)是具有离子源(38)以及作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)的构成，所述离子源(38)按照可向着上述基体保持面的一部分区域照射离子束这样的构成、配置和/或朝向被设置在真空容器(10)内，所述作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)按照可向着作为上述基体保持面的一部分且与基于离子源(38)的离子束的照射区域的至少一部分重复的区域来供给成膜材料这样的构成被设置在真空容器(10)内。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及特别适于光学薄膜及功能性薄膜等的各种成膜的成膜方法和成膜装置。
技术介绍
在用于光学透镜及光学滤光器等光学材料中的光学薄膜(包括防反射膜)的领域中，其光学特性稍有降低就会使作为最终制品的特性发生显著降低。因而针对光学薄膜，希望提高其光学特性(例如光透过率等)。另外，已知有经由以下所示的工序来对作为功能性薄膜一例的防污膜进行成膜的技术(专利文献I)。该方法为下述方法:首先将作为处理对象的两个以上的基板保持在基板支架的基板保持面的整个面上，之后使该基板支架在真空腔室内旋转。接下来，在维持该旋转的状态下，向着两个以上基板中的全部基板连续照射离子(离子的全面照射)，之后使由防污膜的形成原料构成的成膜材料向着通过离子照射而形成了表面凹凸的全部基板进行蒸发并使其附着(成膜材料的全面供给)。通过以上的工序，可将防污膜堆积在两个以上基板中的全部基板的凹凸形成面上。若采用该方法，则能够形成具备可耐实用的耐磨耗性的防污膜(专利文献I的0029段落)；但近年来希望进一步提高针对防污膜的耐磨耗性。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2010-90454号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题根据本专利技术的一个方面，提供各种薄膜的诸性能可进一步得到提高的成膜方法和成膜装置。根据本专利技术的其它方面，提供可有效地形成光学特性进一步提高的光学薄膜的成膜方法和成膜装置。根据本专利技术另一其它方面，提供可有效地形成耐磨耗性进一步得到提高且具有疏水、疏油、防污等各种特性的功能性薄膜的成膜方法和成膜装置。用于解决课题的手段根据本专利技术，提供了一种成膜方法，其为在对基体的表面进行清洁后在该基体的清洁面进行薄膜的成膜的方法，该成膜方法的特征在于:通过向着基体保持单元的基体保持面的一部分区域(例如A2)照射能量粒子,使上述能量粒子仅与在保持于上述基体保持面并进行旋转的两个以上基体中的移动到了上述区域(A2)的特定基体组接触(能量粒子的部分照射)，由此来清洁上述基体的表面。作为能量粒子，除了基于离子源的离子束外，还可示例出基于等离子体源的等离子体等。 在本专利技术中，伴随着基体保持单元的旋转，保持在基体保持面的全部基体中的任意基板从到达上述区域(A2)到离开上述区域(A2)为止的时间被设为tl、从离开上述区域(A2)到下次再到达上述区域(A2)为止的时间被设为t2时，按照tl〈t2的方式来确定上述区域(A2)的尺寸、配置和/或基体保持单元的旋转速度。本专利技术中，在经上述过程对基板表面进行清洁后，通过向着基体保持单元的基体保持面的一部分区域(例如A3)供给薄膜的成膜材料，将上述成膜材料仅供给至移动到了上述区域(A3)的特定基体组(成膜材料的部分供给)，由此可将薄膜堆积在上述基体的清洁面。成膜材料的供给区域(A3)可以与上述的进行基板表面清洁时的能量粒子的照射区域(A2)为同一区域，另外也可为与其不同的区域。本专利技术中，能量粒子的照射区域和成膜原料的供给区域中的一者或这两者可以为由按照不包含基体保持单元中的基体保持面的旋转中心的方式划定的闭合曲线所围起的区域。在本专利技术中，在将薄膜堆积在基体的清洁面时，可以利用能量粒子提供辅助效果。对所堆积的薄膜提供辅助效果的能量粒子可以利用对基体表面进行清洁时的能量粒子。即，在基体表面的清洁终止后，在开始供给成膜材料时，不停止能量粒子的照射而在继续照射的状态下进行成膜材料的供给，由此可以利用能量粒子来提供辅助效果。另外，可在基体表面的清洁终止时停止能量粒子的照射，在开始成膜材料的供给之后，再次开始能量粒子的照射，由此也可利用能量粒子提供辅助效果。具体地说，在对基体的清洁面供给成膜材料的同时，一边通过向着基体保持单元的基体保持面的一部分区域照射能量粒子将上述能量粒子仅连续照射至保持于上述基体保持面并进行旋转的两个以上的基体中的移动到了上述区域的特定基体组从而提供辅助效果，一边使上述薄膜堆积。提供辅助效果时的能量粒子的照射区域可以与上述进行基板表面的清洁时的能量粒子的照射区域(A2)为同一区域，另外，也可为与其不同的区域。本专利技术中，可以使用加速电压为50V 1500V的能量粒子、和/或可以使用照射电流为50mA 1500mA的能量粒子。本专利技术中，可以使用至少含有氧的能量粒子。作为能量粒子，可以使用由离 子源照射出的离子束。根据本专利技术，提供一种成膜装置，其为将具有用于保持两个以上基体的基体保持面的基体保持单元以能够绕着垂直轴旋转的方式配设在真空容器内的成膜装置，该成膜装置的特征在于，其具有能量粒子照射单元与成膜单元，所述能量粒子照射单元以能量粒子能够向着上述基体保持面的一部分区域(例如A2)进行照射这样的构成、配置和/或朝向被设置在真空容器内；所述成膜单元以能够向着下述区域(例如A3)供给成膜材料这样的构成被设置在所述真空容器内，所述区域(例如A3)为上述基体保持面的一部分且所述区域(例如A3)与基于上述能量粒子照射单元的能量粒子的照射区域的至少一部分重复。本专利技术中，能量粒子照射单元以能够对基体保持单元的基体保持面的全部区域的一半以下照射能量粒子的配置被配设在真空容器内。并且，能量粒子照射单元优选由可照射出加速电压为50V 1500V的离子束的离子源来构成。本专利技术中，成膜单元通过包含成膜源与限制单元来构成，所述成膜源以能够向着基体保持单元的基体保持面的全部区域(例如Al)的方向放出成膜材料的配置和朝向被设置在上述真空容器内，所述限制单元对由该成膜源放出的成膜材料的飞散方向进行限制。这种情况下，限制单元按照能够将由成膜源放出的成膜材料对基体保持单元的基体保持面的全部区域的一半以下进行部分供给的方式来进行设置。另外，也可不使用上述限制单元而仅由成膜源来构成成膜单元。这种情况下，只要按照能够对上述基体保持面的全部区域的一半以下供给所放出的成膜材料的方式将成膜源从真空容器内下方的大致中央配置来向端侧靠近而进行配置即可。在靠近真空容器内下方的端侧来配置成膜源的情况下，可以在成膜源的中心与基体保持单元的外缘的最远点的连线相对于沿着作为基体保持单元的旋转中心的垂直轴延长的方向的基准线所成的角度为40度以上的位置来配置成膜源。本专利技术中，可以进一步具有使基体保持单元旋转的旋转单元,能量粒子照射单元可以按照由该照射单元照射出能量粒子的轴线相对于基体保持单元的旋转轴线具有6度以上70度以下的角度的方式配设在真空容器的内部。本专利技术中，能量粒子照射单元可以配设在真空容器的侧面侧，并且该照射单元可以按照成膜时从保持在基体保持面的基体到该照射单元的距离为平均自由行程以下的方式进行配设。本专利技术中，能量粒子照射单元也可以藉由至少可调整安装角度的支持单元而被安装在真空容器的侧面。本专利技术中，在基体保持单元呈平板状或圆顶状或呈棱锥状、形成有从其一侧的面贯通至另一侧的面的贯通孔时，成膜时保持在基体保持面的基体可按堵住贯通孔的方式保持在基体保持单元上。本专利技术中，也可以进一步具备用于对基体和基体保持单元进行加热的加热单元。专利技术效果利用本专利技术，在将薄膜堆积在被保持于基体保持单元的基体保持面上并进行旋转的两个以上的基体表面上之前(成膜开始前)，通过向着基体保持单元的基体保持面的一部分区域照射能量粒子(离子等)，使能量粒子仅与保持于基体保持面上并进行旋转的两个以上的基本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：盐野一郎，林达也，姜友松，长江亦周，宫内充祐，佐守真悟，
申请(专利权)人：株式会社新柯隆，
类型：
国别省市：
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