一种低辐射镀膜玻璃及其制造方法技术

一种低辐射镀膜玻璃及其制造方法，包括玻璃基片和镀覆在其上的镀膜，该镀膜包括多层电介质组合层和设置在相邻的电介质组合层之间的AZO介质单元层，AZO介质单元层包括功能层和AZO介质阻隔层，AZO介质阻隔层敷设在功能层的两侧；或AZO介质单元层还包括阻隔层，阻隔层敷设在AZO介质阻隔层与功能层之间；或该AZO介质单元层包括功能层、AZO介质阻隔层和阻隔层，该阻隔层与该AZO介质阻隔层分别敷设在该功能层的两侧。制造方法包括：a、设置玻璃基片；b、在玻璃基片上镀覆电介质组合层；c、在电介质组合层上镀覆AZO介质单元层；d、在AZO介质单元层上镀覆另一电介质组合层；e、重复步骤c与步骤d。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一镀膜玻璃，特别是一种镀有含AZO电介质阻隔层的具有可钢化双功能层结构的低辐射镀膜玻璃及其制造方法。
技术介绍
目前，低辐射镀膜玻璃的生产方法主要有两种。一种是在线镀膜，一般是指在浮法玻璃生产过程中，在温度较高的玻璃表面按一定配比先后喷涂某些化学雾剂，使之形成具有一定低辐射功能的化合物薄膜，并使之具有较好的物理化学性能，因此一般较为适合在民用市场中推广。另一种是离线镀膜。一般是指将辐射率极低的金属银或其它金属和金属化合物按一定结构、比例通过真空磁控溅射的方式将其镀在玻璃表面的一种镀膜方式。但是，在线低辐射镀膜玻璃的辐射率较高，光学及热学性能相对于离线低辐射镀膜玻璃要相差很多，且颜色变化及遮阳性能较难控制。相对于离线低辐射镀膜，玻璃产品颜色较为单一，所以离线镀膜正逐步被市场所接受。目前，市场上所推广的可钢化低辐射镀膜产品，主要是单银可钢化产品，一般辐射率< 0.15。例如申请号为“200910238978”，名称为“镀膜玻璃及其制造方法”的中国专利技术专利申请所公开的镀膜玻璃，其中功能层Ag层只有一层，即其膜层结构是可钢化单银产品。对于目前市场上的可钢化热处理镀膜玻璃，绝大部分是单银结构，其辐射率较高，尤其钢化热处理后，其辐射率会出现劣化，甚至出现辐射率> 0.15的现象，即已经不再是低辐射Low-e玻璃了。而且，由于单银固有的结构特性，其颜色品种较为单一，已经很难满足现在市场需求及社会发展需要。在传统的低辐射玻璃加工过程中，为了能实现较好的隔热系数U值和选择系数Lsg (可见光透过与遮阳系数的比值)，就必须增加膜层中的银层厚度来降低玻璃膜层的辐射率，以得到理想的选择系数，但是增加银层厚度就意味着可见光透过率降低，在产品性能上已经无法满足客户要求及市场需求。在此背景下，采用普通双银层结构的低辐射镀膜玻璃，不但具有较高的可见光透射率和较好的U值及选择系数Lsg，同时还保有良好的隔热性能和遮阳性能，而且辐射率一般< 0.05 0.1，极大的提高了产品性能。但是，在上述普通双银低辐射玻璃加工过程中，只能对玻璃采用先钢化后镀膜的加工方式，因为先镀膜后钢化会导致:1、在钢化热处理过程中，玻璃结构中的碱金属及碱土金属离子活性增强，部分离子会渗透到膜层中，破坏电介质层及银层。2、在钢化热处理过程中，高温空气中的氧气很容易渗透到膜层中，使银层部分氧化甚至全部氧化。碱金属及碱土金属离子的渗入及氧气对银层的氧化现象，会使玻璃产生颜色变化较大且难于控制，甚至产生斑点、雾化等现象，致使玻璃辐射率性能急剧下降。因此，离线普通双银低辐射玻璃不能像在线低辐射玻璃那样，在基片上镀膜后再进行钢化等后续加工，而且与在大板玻璃基片上先镀膜后钢化的生产方式相比，先钢化后镀膜的玻璃因已具有预订尺寸及形状，故处理小片玻璃有效摆放率降低，加工效率较低，成本较高。例如，现有技术中的可钢化热处理的双银产品，其一般结构为:玻璃/SiOx/ZnOx/Ag/NiCr/ZnO/Ag/NiCr/SnOx/SiNx，此种结构的镀膜玻璃在钢化热处理过程中，尤其温度超过600°C后，底层介质层(SiOx/ZnOx)就很难阻挡玻璃中Na+向膜层中扩散，另外，此种结构功能层Ag层虽然镶嵌在阻隔层NiCr中间，但高温时膜层间的相互扩散削弱了其阻隔效果，从而造成玻璃颜色难于控制，甚至出现斑点、雾化现象，这就给生产带来了不确定性，容易出现批量废品。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种性能稳定且具有可钢化功能层结构的低辐射镀膜玻璃及其制造方法。为了实现上述目的，本专利技术提供了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀覆在所述玻璃基片上的镀膜，其特征在于，所述镀膜包括多层电介质组合层和设置在相邻的所述电介质组合层之间的AZO介质单元层，所述AZO介质单元层包括功能层和AZO介质阻隔层，所述AZO介质阻隔层敷设在所述功能层的两侧；或所述AZO介质单元层包括功能层、AZO介质阻隔层和阻隔层，所述AZO介质阻隔层敷设在所述功能层的两侧，所述阻隔层敷设在所述AZO介质阻隔层与所述功能层之间；或所述AZO介质单元层包括功能层、AZO介质阻隔层和阻隔层，所述阻隔层与所述AZO介质阻隔层分别敷设在所述功能层的两侧。上述的低辐射镀膜玻璃，其中，所述AZO介质阻隔层的厚度为15 20nm。上述的低辐射镀膜玻璃，其中，所述AZO介质阻隔层的AZO化学计量比为ZnOx: AlOx = 97: 3。上述的低辐射镀膜玻璃，其中，所述电介质组合层包括底层电介质组合层、中层电介质组合层和顶层电介质组合层，所述底层电介质组合层与所述中层电介质组合层之间敷设有第一 AZO介质单元层，所述中层电介质组合层和所述顶层电介质组合层之间敷设有第二 AZO介质单元层，所述底层电介质组合层敷设在所述玻璃基片上。上述的低辐射镀膜玻璃，其中，所述第一 AZO介质单元层包括依次敷设的第一 AZO介质阻隔层、第一阻隔层、第一功能层、第二阻隔层和第二 AZO介质阻隔层，所述第二 AZO介质单元层包括依次敷设的第三AZO介质阻隔层、第三阻隔层、第二功能层、第四阻隔层和第四AZO介质阻隔层，所述第一 AZO介质阻隔层敷设在所述底层电介质组合层上，所述第三AZO介质阻隔层敷设在所述中层电介质组合层上，所述中层电介质组合层敷设在所述第二AZO介质阻隔层上，所述顶层电介质组合层敷设在所述第四AZO介质阻隔层上。上述的低辐射镀膜玻璃，其中，所述底层电介质组合层的厚度为28 35nm，所述中层电介质组合层的厚度为65 70nm,所述顶层电介质组合层的厚度为25 30nm。上述的低辐射镀膜玻璃，其中，所述功能层为银层。上述的低辐射镀膜玻璃 ，其中，所述电介质组合层为Ti02、ZnSnOx, Sn02、ZnO、SiO2,Ta2O5' Bi02、A1203、ZnAl2O4' Nb2O5 或 Si3N4 材料层中的一种或几种。上述的低辐射镀膜玻璃，其中，所述阻隔层为NlTixiNNiCiNNiCrO5^P NiCrNxM料层中的一种或几种。为了更好地实现上述目的，本专利技术还提供了一种低辐射镀膜玻璃的制造方法，其中，包括如下步骤:a、设置玻璃基片；b、在所述玻璃基片上镀覆电介质组合层；C、在所述电介质组合层上镀覆AZO介质单元层；d、在所述AZO介质单元层上镀覆另一电介质组合层；e、重复步骤c与步骤d，直到达到需要的镀膜厚度。上述的低辐射镀膜玻璃的制造方法，其中，所述步骤c包括:Cl、在电介质组合层上镀覆一 AZO介质阻隔层；c2、在所述AZO介质阻隔层上镀覆一阻隔层；c3、在所述阻隔层上镀覆一功能层；c4、在所述功能层上镀覆另一阻隔层；c5、在所述另一阻隔层上镀覆另一 AZO介质阻隔层。本专利技术的技术效果在于:1、本专利技术的玻璃可见光透过率较高，透过率T > 65%，由于AZO新材料的引入，辐射率ε由钢化前的0.06，变为钢化后的0.04，钢化后辐射率性能不但没有劣化反而变好；2、不仅克服了常规双银低辐射镀膜产品难以在镀膜后进行钢化热处理的不足，而且在实现可钢化的同时，还具有稳定的光学及热学性能，钢化后颜色变化较小，具有优良的机械性能，后续加工过程中不易出现外观缺陷；3、引入了新材料ΑΖ0，其材料重量比为ZnOx: 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀覆在所述玻璃基片上的镀膜，其特征在于，所述镀膜包括多层电介质组合层和设置在相邻的所述电介质组合层之间的AZO介质单元层，所述AZO介质单元层包括功能层和AZO介质阻隔层，所述AZO介质阻隔层敷设在所述功能层的两侧；或所述AZO介质单元层包括功能层、AZO介质阻隔层和阻隔层，所述AZO介质阻隔层分别敷设在所述功能层的两侧，所述阻隔层敷设在所述AZO介质阻隔层与所述功能层之间；或所述AZO介质单元层包括功能层、AZO介质阻隔层和阻隔层，所述阻隔层与所述AZO介质阻隔层分别敷设在所述功能层的两侧。

【技术特征摘要】
1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀覆在所述玻璃基片上的镀膜，其特征在于，所述镀膜包括多层电介质组合层和设置在相邻的所述电介质组合层之间的AZO介质单元层，所述AZO介质单元层包括功能层和AZO介质阻隔层，所述AZO介质阻隔层敷设在所述功能层的两侧； 或所述AZO介质单元层包括功能层、AZO介质阻隔层和阻隔层，所述AZO介质阻隔层分别敷设在所述功能层的两侧，所述阻隔层敷设在所述AZO介质阻隔层与所述功能层之间； 或所述AZO介质单元层包括功能层、AZO介质阻隔层和阻隔层，所述阻隔层与所述AZO介质阻隔层分别敷设在所述功能层的两侧。2.如权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述AZO介质阻隔层的厚度为15 20nmo3.如权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述AZO介质阻隔层的AZO化学计量比为 ZnOx: AlOx = 97: 3。4.如权利要求1、2或3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述电介质组合层包括底层电介质组合层、中层电介质组合层和顶层电介质组合层，所述底层电介质组合层与所述中层电介质组合层之间敷设有第一 AZO介质单元层，所述中层电介质组合层和所述顶层电介质组合层之间敷设有第二 AZO介质单元层，所述底层电介质组合层敷设在所述玻璃基片上。5.如权利要求4所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一AZO介质单元层包括依次敷设的第一 AZO介质阻隔层、第一阻隔层、第一功能层、第二阻隔层和第二 AZO介质阻隔层，所述第二 AZO介质单元层包括依次敷设的第三AZO介质阻隔层、第三阻隔层、第二功能层、第四阻隔层和第四AZO介质阻隔层，所述第一 AZO介质阻隔层敷设在所述底层电介质组合层...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘霄枫，刘双，王烁，杜彦，
申请(专利权)人：天津南玻节能玻璃有限公司，天津南玻工程玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：