一种用于微纳米几何量测量的阵列式测头制造技术

本实用新型专利技术为一种用于微纳米几何量测量的阵列式测头，由网格状多方孔基座和多个测头组件构成。测头组件包括测头、测杆、悬挂结构、传感单元和电路板，测头组件垂直凸出安装在基座方孔上，方孔在基座上呈网格状阵列式排列，阵列式测头通过基座与三维高精度位移平台的测头连接结构相联接。根据被测工件尺寸，在网格状多方孔基座上选择合适的方孔安装各测头组件，各测头组件可装可拆。各测头组件的测头通过校准整合到统一坐标系中，先用一个测头接触被测尺寸的一个端点，将此测头移开，再用另外的一个测头接触被测尺寸的另一个端点，可快速完成被测工件尺寸的精确测量。与单测头相比，提高了工作效率，并增加了冗余设计。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种超精密尺度测量工具，特别是公开一种用于微纳米几何量测量的阵列式测头，属于微纳米几何量测量领域。
技术介绍
纳米测量技术在纳米科学技术发展中具有非常核心的地位，因为纳米科技的各个领域都涉及到纳米尺度物质的形态，成分，结构以及物理和化学性能(功能)的测量和表征。纳米测量技术随着纳米科技的发展日益丰富而先进，为推动纳米科技的发展与应用提高可靠的技术保障。纳米科技主要的测量工具有扫描隧道显微镜(STM)，原子力显微镜(AFM)，扫描电镜(SEM)等扫描探针显微镜(SPM)以及各种光学干涉仪和光谱学分析手段等。近年来，为实现现场或一般实验室的纳米测试仪器的校准，诞生了带有激光干涉仪的计量型原子力显微镜。为实现大范围的纳米测量，诞生了纳米测量机，并且已经产品化，其测量范围可达25mm X 25mm X 5mm,可用原子力显微镜测头或激光聚焦式测头对被测工件进行微纳米测量。但是，无论是原子力显微镜测头还是激光聚焦式测头，在测量被测工件尺寸时，都要从工件的一端绕到另一端，测量时间较长，工作效率低下。而且，一旦测量过程中，测头发生断裂，折损等问题，测量必须中止，前面的测量工作都白白浪费本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于微纳米几何量测量的阵列式测头，由网格状多方孔基座和多个测头组件构成，测头组件包括测头、测杆、悬挂结构、传感单元和电路板，测头组件垂直凸出安装在基座方孔上，其特征在于：所述的测头组件为2个或2个以上的多个测头组件，多个测头组件安装在基座上，方孔在基座上呈网格状阵列式排列，阵列式测头通过基座与三维高精度位移平台的测头连接结构相联接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王丽华，李源，吴俊杰，雷李华，范国芳，蔡潇雨，毛辰飞，
申请(专利权)人：上海市计量测试技术研究院，
类型：实用新型
国别省市：