一种离线大面积镀膜方法技术

本发明专利技术涉及一种离线大面积镀膜方法，其特征在于：a.在气化装置中对反应前驱液进行气化；b.然后由载气携带通过管道输送至镀膜反应器；c.在镀膜反应器中，前驱气体依次经过进气腔的一组相连通的小气腔室进行前驱气体混合，然后均匀混合后的前驱气体经过镀膜喷出口对镀膜室的在线玻璃镀膜。本发明专利技术的有益效果是采用合适的气态前驱物可以在移动的大尺寸热玻璃表面均匀沉积一种或几种功能性薄膜，且薄膜厚度均匀，无明显的光学干涉条纹。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ー种离线大面积镀膜方法，它是利用常压化学气相沉积法(APCVD)，在移动的热玻璃表面沉积ー种或几种氧化物功能薄膜，这些功能性薄膜包括低辐射(Low-E)薄膜、透明导电金属氧化物(TCO)薄膜、光催化自洁ニ氧化钛薄膜、智能热致变色氧化钒薄膜等。
技术介绍
利用常压化学气相沉积法在大尺寸玻璃基板表面镀膜是目前实现玻璃功能化最常用的方法。这种方法制得的膜层致密，与基体结合牢固，沉积性好，膜厚且比较均匀，膜层质量比较稳定，易于实现大批量生产，国内外很多专利和文献涉及了这方面的エ艺。中国专利技术专利CN1145882A阐述了ー种玻璃涂层的方法，在移动的630 640で的玻璃基板上沉积氧化锡基低辐射功能薄膜，但它没有涉及反应器结构的描述；中国专利技术专利CN1792926A涉及ー种浮法玻璃在线镀膜装置，利用该装置可以在线生产高质量和多功能的镀膜玻璃，但这种装备很难保证膜层的均匀性；美国专利US20040175500A涉及用常压化学气相沉积法制备FTO透明导电膜的エ艺，但没有涉及反应器结构的描述。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术中存在的膜层厚度均匀性控制困难的缺陷，而本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种离线大面积镀膜方法，其特征在于：a.在气化装置中对反应前驱液进行气化；b.然后由载气携带通过管道输送至镀膜反应器；c.?在镀膜反应器中，前驱气体依次经过进气腔的一组相连通的小气腔室进行前驱气体混合，然后均匀混合后的前驱气体经过镀膜喷出口对镀膜室的在线玻璃镀膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：甘治平，彭寿，金良茂，王东，陈凯，张家林，石丽芬，单传丽，邹上荣，
申请(专利权)人：蚌埠玻璃工业设计研究院，中国建材国际工程集团有限公司，
类型：发明
国别省市：