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薄膜栽培坑制造技术

技术编号:8731456 阅读:254 留言:0更新日期:2013-05-25 17:23
本实用新型专利技术属于农业栽培技术领域,提出一种薄膜栽培坑,主要特点是在坑穴内铺设内薄膜,上薄膜呈凹状覆盖在坑穴上面,在上薄膜下面覆盖隆土层,适用于多种作物栽培,也适用于盆景花卉推广应用,具有适应性好,抗旱防涝,减少管理,减轻劳动强度,降低成本,提高产量等优点。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于农业领域,涉及植物栽培设施,具体是一种薄膜栽培坑
技术介绍
地膜覆盖技术已普遍推广应用在农作物、蔬菜、花木的育苗种植,主要作用是提高地温,减少水分散发,但是在持续干旱或连续降雨的情况下,现有覆盖的地膜难以解决耐旱和雨水利用的问题。
技术实现思路
专利技术人在多年从事农业生产的实践中,发现一个时期以来,农业生产,特别是作物种植栽培的季节,旱涝不匀,经常发生持续数十天的干旱,或连接数天的降雨,抗旱排涝不仅增加农业成本,影响作物生长,而且人工劳动强度大,人们迫切需要一种栽培技术,目的在于提供一种薄膜栽培坑,能够更好好解决抗旱,利用雨水和排涝问题。本技术所采取的技术方案是设计一种薄膜栽培坑,其结构包括:坑穴,覆盖在坑穴上面的上薄膜,还在坑穴内铺设内薄膜,上薄膜中部呈凹状,在上薄膜下面覆盖隆土层,隆土层与上薄膜相互一致。本技术采用上述技术措施,所设计的这种薄膜栽培坑,由于在坑穴中增铺薄膜,在向坑穴一次浇水后能较长时间保持坑内水分不向坑穴周围渗漏,加之坑穴上面的上薄膜,能较长时间保持坑内水分不向外散发,起到抗旱的作用;由于上薄膜呈凹状,在适量降雨时,雨水可经上薄膜凹部收集后流入坑内土壤本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜栽培坑,包括坑穴,覆盖在坑穴上面的上薄膜,其特征是还在坑穴的中下部铺设内薄膜,上薄膜中部呈凹状,在上薄膜下面覆盖隆土层。

【技术特征摘要】
1.一种薄膜栽培坑,包括坑穴,覆盖在坑穴上面的上薄膜,其特征是还在坑穴的中下部铺设内薄膜,上薄膜中部呈凹状,在上薄膜下...

【专利技术属性】
技术研发人员:许林川
申请(专利权)人:许林川
类型:新型
国别省市:河南;41

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