【技术实现步骤摘要】
本技术属于磁控溅射镀膜
，特别是涉及一种磁钢检测装置。
技术介绍
真空镀膜包括光学镀膜与磁控溅射镀膜两种，其中磁控溅射镀膜是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。其在光学薄膜、微电子、材料表面处理等工业化生产或科学研究领域中被广泛应用，尤其应用在大面积平板玻璃表面镀制金属单层质膜、合金膜或金属化合物膜工艺中，其中镀成的薄膜厚度的均匀性是成膜质量检测的一项重要指标，而对薄膜厚度起决定作用的是磁场的分布，由于镀膜设备在工作时会存在一定的机械震动，长时间的机械震动会使磁钢内的小磁铁位置发生位移，从而影响磁场分布，所以就需要定期的对磁钢进行检测。目前的检测方法为:首先将磁钢从靶管中取出，然后用绳子将磁钢的两头吊起，再用磁力仪在磁钢的下面进行一字型测量，这样的测量方式存在以下弊端:I由于磁钢是被人为的用绳子吊起，所以会左右晃动，从而造成测量不准确；2由于磁力仪也是人为手持进行测量，所以测量数据也会有偏差；3测量仪的探头和磁钢的距离由于人为的因素...
【技术保护点】
一种磁控溅射镀膜用磁钢检测装置，其特征在于：包括无磁型材框架（5）、磁钢托架A（8）、磁钢托架B（6）、仪器测量台（14）、磁场测试器（11），所述磁钢托架A（8）、磁钢托架B（6）分别固定在无磁型材框架（5）的两侧，其上配装有磁钢（3），所述仪器测量台（14）包括有滑块（1）、连接板（2），在无磁型材框架（5）的一侧设置有滑道（4），其内配置有所述滑块1，在滑道（4）的一侧或两侧设置有刻度B（21），所述连接板（2）上设置有一水平部（19）和一垂直部（20），连接板（2）上的水平部（19）固定在滑块（1）的上表面，其上配装有一呈指针状的指示片（7），所述垂直部（20）上设...
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜用磁钢检测装置，其特征在于:包括无磁型材框架(5)、磁钢托架A (8)、磁钢托架B (6)、仪器测量台(14)、磁场测试器(11)，所述磁钢托架A (8)、磁钢托架B (6)分别固定在无磁型材框架(5)的两侧，其上配装有磁钢(3)，所述仪器测量台(14)包括有滑块(I)、连接板(2)，在无磁型材框架(5)的一侧设置有滑道(4)，其内配置有所述滑块I，在滑道(4 )的一侧或两侧设置有刻度B (21)，所述连接板(2 )上设置有一水平部(19 )和一垂直部(20 )，连接板(2 )上的水平部(19 )固定在滑块...
【专利技术属性】
技术研发人员：王旭升，王琦，
申请(专利权)人：中国南玻集团股份有限公司，天津南玻工程玻璃有限公司，天津南玻节能玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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