【技术实现步骤摘要】
本技术属于磁控溅射镀膜
,特别是涉及一种磁钢检测装置。
技术介绍
真空镀膜包括光学镀膜与磁控溅射镀膜两种,其中磁控溅射镀膜是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。其在光学薄膜、微电子、材料表面处理等工业化生产或科学研究领域中被广泛应用,尤其应用在大面积平板玻璃表面镀制金属单层质膜、合金膜或金属化合物膜工艺中,其中镀成的薄膜厚度的均匀性是成膜质量检测的一项重要指标,而对薄膜厚度起决定作用的是磁场的分布,由于镀膜设备在工作时会存在一定的机械震动,长时间的机械震动会使磁钢内的小磁铁位置发生位移,从而影响磁场分布,所以就需要定期的对磁钢进行检测。目前的检测方法为:首先将磁钢从靶管中取出,然后用绳子将磁钢的两头吊起,再用磁力仪在磁钢的下面进行一字型测量,这样的测量方式存在以下弊端:I由于磁钢是被人为的用绳子吊起,所以会左右晃动,从而造成测量不准确;2由于磁力仪也是人为手持进行测量,所以测量数据也会有偏差;3测量仪的探头和磁钢的距离由于人为的因素也不能完全保持一致;4由于磁钢的本身没有刻度,所以不能准确找出磁力不合格的位置;5检测需要多人合作才能完成,影响检测效率。
技术实现思路
本技术为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种测量准确,效率高的磁控溅射镀膜用磁钢检测装置。本技术为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是:一种磁控溅射镀膜用磁钢检测装置,其特征在于:包括无磁型材框架、磁钢托架A、磁钢托架B、仪器测量台、磁场测试器,所述磁钢 ...
【技术保护点】
一种磁控溅射镀膜用磁钢检测装置,其特征在于:包括无磁型材框架(5)、磁钢托架A(8)、磁钢托架B(6)、仪器测量台(14)、磁场测试器(11),所述磁钢托架A(8)、磁钢托架B(6)分别固定在无磁型材框架(5)的两侧,其上配装有磁钢(3),所述仪器测量台(14)包括有滑块(1)、连接板(2),在无磁型材框架(5)的一侧设置有滑道(4),其内配置有所述滑块1,在滑道(4)的一侧或两侧设置有刻度B(21),所述连接板(2)上设置有一水平部(19)和一垂直部(20),连接板(2)上的水平部(19)固定在滑块(1)的上表面,其上配装有一呈指针状的指示片(7),所述垂直部(20)上设置有托板(13),其上装有磁场测试器(11)。
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜用磁钢检测装置,其特征在于:包括无磁型材框架(5)、磁钢托架A (8)、磁钢托架B (6)、仪器测量台(14)、磁场测试器(11),所述磁钢托架A (8)、磁钢托架B (6)分别固定在无磁型材框架(5)的两侧,其上配装有磁钢(3),所述仪器测量台(14)包括有滑块(I)、连接板(2),在无磁型材框架(5)的一侧设置有滑道(4),其内配置有所述滑块I,在滑道(4 )的一侧或两侧设置有刻度B (21),所述连接板(2 )上设置有一水平部(19 )和一垂直部(20 ),连接板(2 )上的水平部(19 )固定在滑块...
【专利技术属性】
技术研发人员:王旭升,王琦,
申请(专利权)人:中国南玻集团股份有限公司,天津南玻工程玻璃有限公司,天津南玻节能玻璃有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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