【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
大面积连续溅射镀膜技术的应用主要有以下几个方面:其一为大面积金属膜的应用,主要应用在大面积的幕墙装饰领域、大面积平板显示领域和半导体领域,其工作的性质是利用金属膜的金属分光特性、金属反射特性和金属导电特性;其二为大面积光电薄膜的应用,主要应用在大面积建筑领域、汽车领域、太阳能和平板显示领域,如大面积低辐射膜,电致变色膜和大面积透明导电膜;其三为大面积光学薄膜的应用,目前主要应用在太阳能领域,如大面积抗反射膜;其四为光学和电学的交叉领域,例如平板显示领域的高透射型透明导电膜,和增透型防辐射膜等。大面积镀膜技术主要可以分为化学法和物理法。化学法又包含了溶液法(溶胶一凝胶法)和化学气相沉积法,目前用于大面积沉积的主要为溶胶一凝胶法,但是由于化学法本身的工艺复杂特点,不适合大面积连续生产,也不能及时跟上随市场对技术的快速变化。物理镀膜法包含了蒸发镀膜和溅射镀膜,蒸发镀膜大量应用在小基片材料上镀膜,主要集中在高端
内的镀膜,如眼镜片镀膜、滤光片、各种类型的光学视窗、棱镜镀膜和激光器件镀膜等;和低端光学领域塑料镀膜和小部件装饰镀膜,如 ...
【技术保护点】
一种大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置,其特征在于:包括安装架和多块修正小滑块;所述多块修正小滑块并行排列,并且垂直安装在矩形安装架的至少一边内框上,每个修正小滑块均可相对于安装架滑动;修正小滑块伸出端的边缘在矩形安装架内框区域形成调整曲线,所述的安装架和修正小滑块均采用不导磁材料。
【技术特征摘要】
1.一种大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置,其特征在于:包括安装架和多块修正小滑块;所述多块修正小滑块并行排列,并且垂直安装在矩形安装架的至少一边内框上,每个修正小滑块均可相对于安装架滑动;修正小滑块伸出端的边缘在矩形安装架内框区域形成调整曲线,所述的安装架和修正小滑块均采用不导磁材料。2.根据权利要求1所述的大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置,其特征在于:所述多块修正小滑块并行排列,垂直安装在安装架的竖直方向的两内框上。3.根据权利要求1或2所述的大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置,其特征在于:所述修正小滑块,其与安装架连接的一端设有滑槽,通过滑槽安装在安装架上。4.根据权利要求1或2所述的大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置,其特征在于:所述修正小滑块包括窄修正小滑块和宽修正小滑块,安装架内框的上端和下端均安装有多个窄修正小滑块,宽修正小滑块位于两端的窄修正小滑块之间。5.一种利用权利要求1或2所述的大面积连续...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭爱云,黄国兴,孙桂红,祝海生,梁红,黄乐,
申请(专利权)人:湘潭宏大真空技术股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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