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本发明提供了一种大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置及调整方法，本发明的大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置包括安装架和多块修正小滑块；所述多块修正小滑块并行排列，并且垂直安装在矩形安装架的至少一边内框上，每个修正小滑块均可相对于安装架滑动...
该专利属于湘潭宏大真空技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湘潭宏大真空技术股份有限公司授权不得商用。

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