【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种高真空条件下在各种带材表面连续磁控溅射制备各类薄膜的镀膜设备和方法，特别涉及一种卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置及镀膜方法。
技术介绍
磁控溅射镀膜技术已经在我国的建材、装饰、光学、工磨具强化、集成电路等领域得到广泛应用，是进行、光电、光热、磁学、超导、介质、催化等功能薄膜制备的重要技术手段，但目前市场上的设备主要用于小面积或单片衬底的溅射镀膜，能够实现工业连续化生产的设备和技术并不多见，少数能够实现连续化生产的设备同样存在溅射效率低，镀膜质量差，工艺时间长等缺点，市场前景并不乐观，如何利用磁控溅射技术实现溅射镀膜技术的效率高，膜层质量均匀，粘附性好等特点，是利用磁控溅射技术所亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的是提供一种用于带状工件的表面溅射镀膜，生产效率高，溅射膜层质量稳定、均匀、一致性好的卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置和镀膜方法。为了实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案一种卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置，包括溅射室2和进样室3，其中所述溅射室2内安装至少一个靶材，溅射室2内的中部为加热区，该加热区的上下方分别有上胶辊9和下...
【技术保护点】
一种卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置，包括溅射室(2)和进样室(3)，其特征在于：所述溅射室(2)内安装至少一个靶材，溅射室(2)内的中部为加热区，该加热区的上下方分别有上胶辊（9）和下胶辊（8），将带状工件在溅射室（2）内可控制的反复往来卷绕；所述进样室(3)中安装有电机驱动的收卷装置(6)和放卷装置(7)；所述溅射室(2)与进样室(3)之间设有至少两个可调节的狭缝。
【技术特征摘要】
1.一种卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置，包括溅射室(2)和进样室(3)，其特征在于所述溅射室(2)内安装至少一个靶材，溅射室(2)内的中部为加热区，该加热区的上下方分别有上胶辊(9)和下胶辊(8)，将带状工件在溅射室(2)内可控制的反复往来卷绕；所述进样室(3)中安装有电机驱动的收卷装置(6)和放卷装置(7)；所述溅射室(2)与进样室(3)之间设有至少两个可调节的狭缝。2.如权利要求1所述的卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于所述加热区分为上加热区和下加热区，上加热区内布置有上加热体(25)，下加热区内布置有下加热体(26)。3.如权利要求1所述的卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于所述上胶辊(9)和下胶辊⑶分别由上卷绕电机(19)相连的上胶辊(9)和下卷绕电机(20)驱动。4.如权利要求1所述的卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于溅射室(2) 与进样室(3)之间的狭缝有狭缝调节装置(16)，狭缝调节装置(16)上与放卷装置(7)对应处设有放卷狭缝(27)，与收卷装置(6)对应处设有收卷狭缝(28)。5.如权利要求4所述的卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于所述狭缝调节装置(16)可将放卷狭缝(27)和收卷狭缝(28)关闭，从而将溅射室(2)与进样室(3) 独立分开。6.如权利要求1所述的卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于所述溅射室(2)和进样室(3)分别设置有抽真空系统，溅射室(2)的抽真空系统包括第二分子泵 (23)和第二机械泵(24)，进样室(3)的抽真空系统包括第一分子泵(21)和第一机械泵(22);两套抽真空系统可独立工作。7.如权利要求1所述的卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱景森，张承庆，胡小萍，卢志超，李德仁，
申请(专利权)人：安泰科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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