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本发明涉及一种高真空条件下在各种带材表面连续磁控溅射制备各类薄膜的镀膜设备和方法。该真空镀膜装置包括溅射室(2)和进样室(3)，所述溅射室内安装至少一个靶材，溅射室(2)内的中部为加热区，该加热区的上下方分别有上胶辊（9）和下胶辊（8），将...
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