一种表面增强拉曼散射基底的制备方法技术

一种表面增强拉曼散射基底的制备方法，包括如下步骤：1）准备带有图案的双层复合结构的柔性纳米压印模板；2）压印出有序纳米结构图案；3）真空蒸镀；4）除去纳米压印胶阻挡层；本发明专利技术方法可以应用于所有表面增强拉曼散射基底的制备，可以克服传统纳米压印制备SERS基底中存在的对基底要求苛刻，在形貌复杂、高曲率表面难以制备高分辨率的金属有序结构SERS基底的缺陷，且该方法工艺简单，能大面积、大规模、低成本地生产高性能SERS基底，有能力解决SERS基底的制备需求，能很好的满足目前的实际需求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及表面光谱
，尤其涉及一种有序结构表面增强拉曼散射基底的制备方法。
技术介绍
自20世纪70年代，Martin Fleischmann首次发现表面增强拉曼散射(Surfaceenhanced Raman scattering, SERS)现象以来，经过几十年的发展，SERS检测技术已经广泛应用于物理、化学、生物、医药、材料等各个领域，成为物质分子微量检测的重要工具。活性基底的制备是获得SERS信号的前提，为了将SERS作为一种常规、在线的分析工具，所制备的SERS基底应具有高信号增强能力且均一性好、易于制备和存储、使用方便等特点。目前用于制备SERS活性基底的方法主要有溶胶-凝胶法，电化学沉积，LB成膜，模板法等，但这些方法存在着均一性难以控制，且难以大面积生产的缺点。近年来，人们开始尝试使用纳米压印技术制备有序结构的SERS基底(中国专利CN200710055453)，这样既可以实现SERS批量大面积生产，又能利用其高度有序结构可以很大提高其响应灵敏度。但是使用传统的纳米压印技术制备SERS基底，对衬底要求极其苛刻，要求衬底必须是刚性、平面模板，而对于一些复杂形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面增强拉曼散射基底的制备方法，包括如下步骤：1）、准备带有图案的双层复合结构的柔性纳米压印模板；2）、压印出有序纳米结构图案；3）、真空蒸镀；4）、除去纳米压印胶阻挡层；其特征在于：1）、准备带有图案的双层复合结构的柔性纳米压印模板：该双层复合模板上层为柔性的高分子弹性体衬底，杨氏模量范围在1~5?N/mm2,下层为刚性的光固化高分子压印层，杨氏模量范围在20?N/mm2以上，其厚度为20~500?nm，上下两层通过粘接或化学键紧密结合；2）、压印出有序纳米结构图案：采用复合式纳米压印方法将带有图案的柔性纳米压印模板在清洗干净的基底表面压印出有序纳米结构图案；3）、真空蒸镀：采用真空蒸镀...

【技术特征摘要】
1.一种表面增强拉曼散射基底的制备方法，包括如下步骤:1)、准备带有图案的双层复合结构的柔性纳米压印模板；2)、压印出有序纳米结构图案；3)、真空蒸镀；4)、除去纳米压印胶阻挡层；其特征在于: 1)、准备带有图案的双层复合结构的柔性纳米压印模板:该双层复合模板上层为柔性的高分子弹性体衬底，杨氏模量范围在广5 N/mm2,下层为刚性的光固化高分子压印层，杨氏模量范围在20 N/mm2以上，其厚度为20飞00 nm，上下两层通过粘接或化学键紧密结合； 2)、压印出有序纳米结构图案:采用复合式纳米压印方法将带有图案的柔性纳米压印模板在清洗干净的基底表面压印出有序纳米结构图案； 3)、真空蒸镀:采用真空蒸镀的方法在已压印有有序纳米结构图案的基底表面沉积金属粒子； 4)、除去纳米压印胶阻挡层:采用O2反应离子刻蚀工艺除去纳米压印胶阻挡层，最终获得金属粒子相间排列的金属有序结构表面增强拉曼散射基底。2.根据权利要求1所述的一种表面增强拉曼散射基底的制备方法，其特征在于:所述的步骤I)中的下层刚性的光固化高分子压印层，其表面键合有一层低表面能氟化有机小分子或高分子防粘层。3.根据权利要求1所述的一种表面 增强拉曼散射基底的制备方法，其特征在于:所述的步骤2)中的复合式纳米压印方法是:(1)、在清洗干净的基底表面上涂布紫外固化纳米压印胶，形成压印胶层；(2)、将柔性纳米压印模板通过压力压入上述压印胶层，使柔性纳米压印模板中的纳米结构凸起部分的...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘革波，李丰，葛海雄，
申请(专利权)人：南京丰强纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：