【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于透射电镜薄膜样品的研磨抛光装置。
技术介绍
理想的透射电镜薄膜样品要求具有面积大而均匀并且无人为缺陷的薄(电子束透明)区，制备出这样的样品要经过多道程序的减薄，一般第一步是机械预减薄(研磨)，要求至少研磨至30 y m左右后才能进行下一步减薄，因此机械研磨是透射电镜薄膜样品制备的关键步骤之一，而好的研磨工具也尤为重要。手工研磨装置尽管对操作者的要求较高，但由于其更加经济，因而应用较为广泛。目前，市场上销售的透射电镜薄膜制样的研磨抛光装置，或价格昂贵，效率较低，或结构复杂，操作不便。其中，针对楔形样品的研磨，大多数的研磨工具采用了多个微分头进行角度调节，这样不但没有大大提高研磨的效率和精度，反而增加了工具的制造成本。而本专利技术的一个创新之处就在于只采用一个微分头控制楔形样品的倾斜角度，使得在精度得到保证的同时，装置的制造成本极大节约。
技术实现思路
本专利技术针对现有手工研磨工具的不足，提供一种可以大幅节约制造成本并提高研磨效率的用于透射电镜薄膜样品的研磨抛光装置。本专利技术通过以下技术方案实现:一种用于透射电镜薄膜样品的研磨抛光装置，该研磨抛光装置包括圆柱形基体、三个圆柱形支柱、三个旋转螺杆、直角棱台和微分头。圆柱形基体有四个通孔，除中心通孔外，其余三个通孔围绕圆柱形基体底部的圆心均匀分布，三个通孔与三个圆柱形支柱滑动配合。旋转螺杆，包括圆柱状套筒和螺杆二部分，圆柱状套筒通过螺钉与圆柱状基体上相应通孔固定连接，圆柱状套筒的中心处开有螺纹通孔，供螺杆进出。直角棱台上有与圆柱状基体中心的通孔相对应的通孔，螺栓穿过中心通孔将其与圆柱状基体固...
【技术保护点】
一种用于透射电镜薄膜样品的研磨抛光装置，其特征在于:?该研磨抛光装置包括圆柱形基体(1)、三个圆柱形支柱(2)、三个旋转螺杆(3)、直角棱台(4)；微分头(5)和直角棱台（4）上的三分之二圆形通孔（7）以及半圆形凹槽（8）。圆柱形基体(1)有四个通孔，除中心通孔外，其余三个通孔围绕圆柱形基体(1)底部的圆心均匀分布，三个通孔与三个圆柱形支柱(2)滑动配合；旋转螺杆(3)包括圆柱状套筒(3?1)和螺杆(3?2)二部分，圆柱状套筒(3?1)通过螺钉与圆柱形基体(1)上相应通孔固定连接，圆柱状套筒(3?1)的中心处开有螺纹通孔，供螺杆(3?2)进出；直角棱台(4)上有与圆柱状基体(1)中心的通孔相对应的通孔，螺栓穿过中心通孔将其与圆柱形基体(1)固定连接；直角棱台(4)的棱角处开有半圆形凹槽（8）和三分之二圆形通孔（7）；?微分头(5)与直角棱台(4)配合，通过半圆形凹槽（8）固定，并利用螺钉锁紧。
【技术特征摘要】
1.一种用于透射电镜薄膜样品的研磨抛光装置，其特征在于:该研磨抛光装置包括圆柱形基体(I)、三个圆柱形支柱(2)、三个旋转螺杆(3)、直角棱台(4);微分头(5)和直角棱台(4)上的三分之二圆形通孔(7)以及半圆形凹槽(8)。圆柱形基体(I)有四个通孔，除中心通孔外，其余三个通孔围绕圆柱形基体(I)底部的圆心均匀分布，三个通孔与三个圆柱形支柱(2)滑动配合； 旋转螺杆(3)包括圆柱状套筒(3-1)和螺杆...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。