【技术实现步骤摘要】
本技术涉及ー种用于生产烧结钕铁硼磁体的真空烧结炉。
技术介绍
烧结是生产烧结钕铁硼磁体的必经步骤，这个步骤通常在真空烧结炉中进行。在以往的真空烧结炉中，例如CN2044710和CN2781304，加热室的形状为水平放置的长方体或圆筒形，作为加热元件的钥丝或钥片呈环状地分布在加热室四周的内壁上。在烧结过程中，钥丝或钥片发出的热以热辐射的方式到达待烧结的钕铁硼磁体，从而对它们进行加热。然而，这种烧结炉的加热室，由于其加热元件位于加热室的四周，所发出的热以热辐射的方式到达待烧结的钕铁硼磁体，因而需要较长时间才能使待烧结的钕铁硼磁体的中心温度与外部温度一致，例如，一般需要6小时。具体来说，因为采用热辐射的方式，因而加热室内的温度分布为越远离加热室的四周(即，越远离加热元件)，则温度越低。即，加热室四周的温度高，而中心的温度低。这导致为了使位于加热室中的待烧结的钕铁硼磁体的中心温度与外部温度一致，需要较长的时间，因而生产效率不高。
技术实现思路
有鉴于此，本技术的ー个目的在于提供ー种真空烧结炉，使得只需较短的时间即可使待烧结的钕铁硼磁体的中心温度与外部温度一致，从而提高生产效率。...
【技术保护点】
一种真空烧结炉，包括炉体（1）和加热元件（2），所述加热元件（2）限定用于加热的空间，其特征在于：在所述空间内，还设置有第二加热元件（3），所述第二加热元件（3）将所述空间分为多个子空间，待烧结物放置在所述子空间内。
【技术特征摘要】
1.ー种真空烧结炉，包括炉体(I)和加热元件(2)，所述加热元件(2)限定用于加热的空间，其特征在于: 在所述空间内，还设置有第二加热元件(3)，所述第二加热元件(3)将所述空间分为多个子空间，待烧结物放置在所述子空间内。2.根据权利要求1所述的真空烧结炉，其特征在于，所述第二加热元件(3)呈板状。3.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：白晓刚，潘广麾，
申请(专利权)人：天津三环乐喜新材料有限公司，北京中科三环高技术股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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