一种钕铁硼磁体及其制备方法和应用技术

本发明专利技术提供一种钕铁硼磁体及其制备方法和应用，所述钕铁硼磁体组件包括依次设置的钕铁硼基体、铜层和有机层；自所述钕铁硼基体向外，所述铜层包括铜基体层和铜表面处理层；所述铜表面处理层的粗糙度Ra为0.25～0.40μm，所述铜表面处理层的材质包括铜氧化物，所述铜表面处理层与所述钕铁硼基体之间被所述铜基体层完全隔离开。本发明专利技术提供的钕铁硼磁体能够提高有机层与铜层之间的结合力，能够适用于磕碰等环境，进一步保证钕铁硼基体的耐腐蚀性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及钕铁硼，尤其涉及一种钕铁硼磁体及其制备方法和应用。

技术介绍

1、烧结钕铁硼磁体由于其优异的磁性能而被广泛应用于汽车工业、电子产品、风电、电梯、工业机器人、航空航天等诸多领域。但是钕铁硼磁体的化学稳定性差，日常应用过程中容易发生氧化，特别是处于湿热环境中容易发生电化学腐蚀，因此在应用前需要对磁体进行表面处理提高磁体的耐腐蚀性能。

2、常规的表面防腐处理方法可分为：电镀、化学镀、电泳、涂料涂装和真空镀等，以获得含有金属或合金膜层、聚合物膜层、化学转化膜层和复合膜层。

3、在酸、碱性环境以及磁体表面绝缘情况下，采用电泳或涂覆工艺形成环氧膜层，该工艺对环境污染小，厚度一致性高，其中，采用涂覆工艺操作过程简单，工作效率高，但是在制备复合膜层过程中，如何提高环氧膜层与其他膜层之间的结合力需要进一步解决。

技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种钕铁硼磁体及其制备方法和应用，通过在电镀铜层的表面进行氧化处理，将致密光滑的铜层表面转化为疏松且表面粗糙度高的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种钕铁硼磁体，其特征在于，所述钕铁硼磁体包括依次设置的钕铁硼基体、铜层和有机层；

2.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述铜表面处理层的粗糙度Ra为0.28～0.38μm

3.根据权利要求1或2所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述钕铁硼基体的材质包括28～32.5wt％的R，1.0～2.5wt％的M，0.8～1.2wt％的B，余量的Fe，其中R至少包括Pr和Nd，还包括Dy、Tb、Ho或Gd中至少一种；M包括Co、Al、Cu、Ga、Zr、Nb、Ti、Mo、Sn、Hf或W中的至少一种。

4.一种钕铁硼基体的表面处理方法，其特征在于，所述表...

【技术特征摘要】

1.一种钕铁硼磁体，其特征在于，所述钕铁硼磁体包括依次设置的钕铁硼基体、铜层和有机层；

2.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述铜表面处理层的粗糙度ra为0.28～0.38μm

3.根据权利要求1或2所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述钕铁硼基体的材质包括28～32.5wt％的r，1.0～2.5wt％的m，0.8～1.2wt％的b，余量的fe，其中r至少包括pr和nd，还包括dy、tb、ho或gd中至少一种；m包括co、al、cu、ga、zr、nb、ti、mo、sn、hf或w中的至少一种。

4.一种钕铁硼基体的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理方法得到权利要求1～3任一项所述的钕铁硼磁体；

5.根据权利要求4所述的表面处理方法，其特征在于，所述形成铜表面处理层的方式包括电化学阳极氧化处理；

【专利技术属性】
技术研发人员：张龙，仉新功，贺元辉，于海华，白晓刚，潘广麾，
申请(专利权)人：天津三环乐喜新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：

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