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本发明提供一种钕铁硼磁体及其制备方法和应用，所述钕铁硼磁体组件包括依次设置的钕铁硼基体、铜层和有机层；自所述钕铁硼基体向外，所述铜层包括铜基体层和铜表面处理层；所述铜表面处理层的粗糙度Ra为0.25～0.40μm，所述铜表面处理层的材质包括...
该专利属于天津三环乐喜新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津三环乐喜新材料有限公司授权不得商用。

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