一种高温高真空电阻炉制造技术

本实用新型专利技术涉及一种高温高真空电阻炉。该电阻炉由电控柜、炉体、发热体、隔热屏、分子泵和干泵等零部件组成。该电阻炉结构科学且合理、真空性能和均温性能好的实验用高温真空炉，解决了透明陶瓷制备过程中由于加热器挥发造成材料污染的问题，同时实现了高温下的高真空获得，特别适合对于制备高性能透明陶瓷烧结所用。可实现冷态极限真空可达8*10-6Pa，系统漏率≤1×10-6Pa·L/S.，在高温下(1500℃-1900℃)真空5.8*10-5Pa的技术指标。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术专利技术涉及ー种高温加热真空设备，采用纯度>99. 5%钨作为加热器，纯度> 99. 5%薄钨片作为隔热屏设计，适合于粉末冶金、难熔金属、透明陶瓷制备等需要进行高温高真空烧结的材料制备领域。属于エ业上高温真空烧结设备ー类。
技术介绍
闻温和闻真空是一对矛盾的关系，在闻温下很难保证闻的真空度，闻温下加热兀件、隔热屏、不锈钢件、铜材都有气体放出，这对获得高温下高真空极其不利。为了得到在高温下有较高的真空度，这就要求真空腔体结构、密封结构、法兰连接设计要科学、合理。法兰面不能完全用传统的胶圈密封。因为胶圈密封高温下胶圈本身要放出气体，而且气体分子会从胶圈连接的法兰面渗漏。要想获得较高的真空度必须改用刀ロ设计、无氧铜密封各个 法兰面以減少高温下材料放气和微渗漏。这样可以保证真空腔体有极小的漏率而获得较高的真空度。要想获得高温下温场±5°C的均匀性就必须对加热体、隔热屏进行合理的设计，目前国内没有一家企业能同时完成高温、高真空这两个技术指标的设计工作。本所联合西部金属材料有限公司和中科院沈阳科学仪器有限公司这两家企业完成了这两个技术指标的设计要求。本所提供设计构想和图纸，结本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高温高真空电阻炉，由电控柜（1）、炉体（4）、发热体（10）、隔热屏（6？9）、干泵（11）、分子泵（12）、充放气接口（18？19）、水冷进出接口（13？17）等组成，其特征在于：a.电控柜（1）由PLC、触摸屏、继电器、功率调压器、变压器、空气开关、交流互感器、温控仪表等电器元器件实现设备的智能化控制；b.炉子是由炉体（4）和炉盖（5）构成，通过升降电机（27）开合炉盖，活动手提小屏（9）放置坩埚（25）在载料架上，炉盖上设置有冷却水进出接口（16？17），充保护性气体接口（18）；炉体上设有真空压力表、热电偶（21？22）、放气阀（19）、三相电极连接座（3）、电极水冷进出口（20）...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：曹永革，郭旺，黄秋凤，
申请(专利权)人：中国科学院福建物质结构研究所，
类型：实用新型
国别省市：