【技术实现步骤摘要】
本申请涉及一类多孔氧化物单晶材料及其制备方法和应用,属于无机材料领域。
技术介绍
1、二氧化锆是一种宽带隙(5.0-5.5ev)过渡金属氧化物,具有优异的机械、热、光学和电特性,可广泛应用于结构陶瓷器件、气体传感器、催化剂和光电器件等的制造。此外,二氧化锆具有氧化还原性能以及酸性和碱性特性,是一种理想的催化剂或催化剂载体。
2、二氧化锡是重要的宽带隙(3.6~4.0ev)金属氧化物半导体材料。二氧化锡理论上是典型的绝缘体,但由于晶格中的氧缺位,禁带内形成施主能级,向导带提供电子而具有n型半导体性质。二氧化锡是一种优良的、稳定的导电材料,熔点高,硬度高。二氧化锡纳米粒子因兼具纳米材料和半导体材料的双重特性,具有优良的物化性能,被广泛应用在气敏传感器、光催化剂、透明导电薄膜和电池电极等方面。目前制备的多孔二氧化锡电极研究已经非常广泛,但都是基于无定型或者多晶的二氧化锡粉末,晶界众多,限制了催化剂的性能;表面的终止原子不确定,严重限制了催化机理的深入研究。
3、对于块体材料来说,其具有高比表面积的有序多孔材料能促进固体
...【技术保护点】
1.一类多孔氧化物单晶材料,其特征在于,所述多孔氧化物单晶材料含有10nm~1000nm的孔。
2.根据权利要求1所述的多孔氧化物单晶材料,其特征在于,所述多孔氧化物单晶材料含有10nm~500nm的孔;
3.根据权利要求1所述的多孔氧化物单晶材料,其特征在于,所述多孔氧化物单晶材料为多孔氧化物单晶薄膜和/或多孔氧化物单晶晶体。
4.根据权利要求3所述的多孔氧化物单晶材料,其特征在于,所述多孔氧化物单晶薄膜的表面为多孔氧化物单晶的(410)面、(-111)面、(111)面中的至少一面;
5.根据权利要求1所述的多孔氧化物
...【技术特征摘要】
1.一类多孔氧化物单晶材料,其特征在于,所述多孔氧化物单晶材料含有10nm~1000nm的孔。
2.根据权利要求1所述的多孔氧化物单晶材料,其特征在于,所述多孔氧化物单晶材料含有10nm~500nm的孔;
3.根据权利要求1所述的多孔氧化物单晶材料,其特征在于,所述多孔氧化物单晶材料为多孔氧化物单晶薄膜和/或多孔氧化物单晶晶体。
4.根据权利要求3所述的多孔氧化物单晶材料,其特征在于,所述多孔氧化物单晶薄膜的表面为多孔氧化物单晶的(410)面、(-111)面、(111)面中的至少一面;
5.根据权利要求1所述的多孔氧化物单晶材料,其特征在于,...
【专利技术属性】
技术研发人员:谢奎,程方圆,张苏宁,马国良,赵皖祥,
申请(专利权)人:中国科学院福建物质结构研究所,
类型:发明
国别省市:
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