涂敷装置制造方法及图纸

一种基板处理系统，具备：处理单元，其对基板进行涂敷处理；基板送入单元，其被供给收容有涂敷处理前的所述基板的送入用容器，且回收空的所述送入用容器；基板送出单元，其回收收容有所述涂敷处理后的所述基板的送出用容器，且被供给空的所述送出用容器；输送单元，其具有输送机构，该输送机构在所述处理单元内的装载位置和所述基板送入单元之间输送所述送入用容器，并在所述处理单元内的卸载位置和所述基板送出单元之间输送所述送出用容器。吸引基板并将其保持的吸引部设置为能够相对于在基部设置的臂部旋转，能够在利用保持部保持了基板的状态使其旋转的输送装置。利用喷嘴从以竖立的状态使其旋转的基板的两面喷出液状体地构成的涂敷装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及基板处理系统、输送装置及涂敷装置。
技术介绍
例如，在构成半导体基板、液晶面板的玻璃基板、构成硬盘的基板等各种基板上形成抗蚀剂膜等薄膜时，使基板旋转的同时，在该基板上形成涂敷膜的涂敷装置(例如，参照专利文献I)。涂敷装置例如作为涂敷单元，有时搭载于包括基板的送入动作、涂敷动作、送出动作的基板处理系统中。这样的基板处理系统按每个主要动作单元化的情况居多，例如，在上述例子中，有时搭载进行送入动作的基板送入单元、进行送出动作的基板送出单元。在贯穿多个单元之间输送基板的情况下，通常在每个单元配置输送装置，在各输送装置之间进行基板或收容该基板的盒等的转移。其次，在这样的涂敷装置搭载有使基板旋转的旋转机构。旋转机构能够以例如将基板吸附等而保持的状态使该基板旋转。在将基板保持于旋转机构时，例如，利用输送装置从外部向旋转机构输送基板的情况居多。作为这样的输送装置，例如，已知有在臂的前端设置有基板保持部的结构的输送装置。作为在该输送装置设置 的基板保持部，例如，已知有具有吸附基板的吸附部的结构。该输送装置在将基板输送至涂敷装置后，在与涂敷装置的旋转机构之间进行基板的转移。其次，在这样的涂敷装置中，通常以将基板相对于水平面平行放置，以保持下侧的基板面的状态使其旋转。另一方面，例如，对如构成硬盘的基板等一样需要在基板的两面涂敷液状体的基板，不能够保持下侧的基板面，因此，例如，如专利文献I中的记载，提出了利用保持块保持基板的同时使其旋转的结构。专利文献I日本特开平7-130642号公报。然而，在单元之间的送出动作中使用多个输送装置的基板处理系统中，该输送装置的配置和转移控制的时序等结构上或控制上的设定等容易变得复杂，随之，存在系统结构整体变得复杂化，并且，处理节拍变长的问题。
技术实现思路
鉴于如上所述的情况，本专利技术的第一目的在于提供能够简化系统结构，能够缩短处理节拍的基板处理系统。其次，在输送装置和涂敷装置之间进行基板的转移的情况下，例如，需要基板的对位，或需要解除例如基板保持部中的吸附，在旋转机构中重新吸附基板，重新保持，因此，需要相应的时间。因此，每一张基板所需的处理时间(节拍)变长，在提高生产率上成为问题。对此，不仅在基板形成薄膜的情况，而且只要是使基板旋转的处理，则在进行其他处理时也可能同样成为问题。鉴于如上所述的情况，本专利技术的第二目的在于提供能够缩短处理节拍，并能够提高生产率的输送装置。其次，根据专利文献I中记载的方法可知，将基板平放的状态下，在两面涂敷液状体，因此，在基板的表面和基板的背面之间，涂敷环境不同，形成的薄膜的状态可能不同。鉴于如上所述的情况，本专利技术的第三目的在于提供能够改善在基板上涂敷的液状体的状态的涂敷装置。本专利技术的第一方式(aspect)是一种基板处理系统，其中，具备:处理单元，其对基板进行规定处理；基板送入单元，其被供给收容有所述规定处理前的所述基板的送入用容器，并且回收空的所述送入用容器；基板送出单元，其回收收容有所述规定处理后的所述基板的送出用容器，并且被供给空的所述送出用容器；输送单元，其具有输送机构，该输送机构在所述处理单元内的装载位置和所述基板送入单元之间输送所述送入用容器，并在所述处理单元内的卸载位置和所述基板送出单元之间输送所述送出用容器。根据该方式可知，设置于输送单元的输送机构在处理单元内的装载位置和基板送入单元之间输送送入用容器，并且，在处理单元内的卸载位置和基板送出单元之间输送送出用容器，因此，能够使一个输送机构进行不同的输送区间的输送动作。由此，能够单纯化基于输送机构的输送处理，因此，能够简化系统结构，能够缩短处理节拍。另外，根据该方式可知，分开使用送入用容器和送出用容器，因此，还具有能够防止基板的污染的优点。优选在上述基板处理系统中，所述处理单元、所述基板送入单元及所述基板送出单元配置于直线方向上。在这种情况下，处理单元、基板送入单元及基板送出单元配置于直线方向上，因此，能够将各单元之间的输送路径设定于该直线方向上。由此，能够避免输送路径的复杂化，能够简化系统结构。优选在上述基板处理系统中，所述处理单元配置于所述基板送入单元和所述基板送出单元之间。在这种情况下，处理单元配置于基板送入单元和基板送出单元之间，因此，各单元沿基板的流动的方向配置。由此，能够提高处理的效率。优选在上述基板处理系统中，所述输送单元具有使所述输送机构沿所述直线方向移动的移动机构。在这种情况下，输送单元具有使输送机构沿直线方向移动的移动机构，因此，能够单纯化输送机构的移动动作。由此，能够简化系统结构。在上述基板处理系统中，在所述基板送入单元及所述基板送出单元分别设置有多个容器待机部。在这种情况下，在基板送入单元及基板送出单元分别设置有多个容器待机部，因此，能够迅速地处理更多的基板。优选在上述基板处理系统中，所述基板送入单元及所述基板送出单元中至少一方具有使多个所述容器待机部移动的第二移动机构。在这种情况下，基板送入单元及基板送出单元中至少一方具有使多个容器待机部移动的第二移动机构，因此，能够使容器待机部向更靠近输送单元的位置移动。由此，能够迅速地进行输送动作，能够实现处理的效率化。优选在上述基板处理系统中，所述第二移动机构以使供给对象容器靠近所述输送单元，并且使回收对象容器离开所述输送单元的方式使所述容器待机部移动。在这种情况下，第二移动机构以使供给对象容器靠近输送单元，并且使回收对象容器离开输送单元的方式使容器待机部移动，因此，能够更迅速地进行供给对象容器的供给动作及回收对象容器的回收动作。由此，能够实现处理的效率化。优选在上述基板处理系统中，在所述处理单元设置有缓冲机构，该缓冲机构具有与所述装载位置及所述卸载位置中至少一方对应的多个第二容器待机部。在这种情况下，在处理单元设置有缓冲机构，该缓冲机构具有与装载位置及卸载位置中至少一方对应的多个第二容器待机部，因此，能够迅速地进行处理单元中的基板的装载动作及卸载动作。由此，能够实现处理的效率化。优选在上述基板处理系统中，所述缓冲机构具有使多个所述第二容器待机部移动的第三移动机构。在这种情况下，缓冲机构具有使多个第二容器待机部移动的第三移动机构，因此，能够根据容器内的基板的残留量，使第二容器待机部移动。由此，能够实现处理的效率化。优选在上述基板处理系统中，所述第三移动机构使所述第二容器待机部在与所述输送机构的输送方向相同的方向上移动。在这种情况下，第三移动机构使第二容器待机部在与输送机构的输送方向相同的方向上移动，因此，第二容器待机部沿输送方向移动。因此，输送机构和第二容器待机部之间的距离保持为恒定。通过将该距离保持为恒定，能够使输送机构和第二容器待机部之间的输送动作恒定，因此，能够避免输送动作的复杂化。优选在上述基板处理系统中，所述处理单元具有拾取机构，所述拾取机构从所述送入用容器抬起所述基板，将所述基板配置于所述装载位置。在这种情况下，处理单元具有从送入用容器抬起基板，将基板配置于装载位置的拾取机构，因此，能够迅速地进行基板的装载动作。优选在上述基板处理系统中，所述输送单元具有使所述输送机构的朝向旋转的旋转机构。在这种情况下，输送单元具有使输送机构的朝向旋转的旋转机构，因此，即使在输送方向和容器的转移方向不同的情况下，也能够顺本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂敷装置，其中，具有：旋转机构，其以基板竖立的状态使所述基板旋转；涂敷机构，其具有在所述基板旋转的同时向所述基板的表面及背面分别喷出液状体的喷嘴。

【技术特征摘要】
2008.08.28 JP 2008-219562;2008.08.28 JP 2008-21951.一种涂敷装置，其中，具有: 旋转机构，其以基板竖立的状态使所述基板旋转； 涂敷机构，其具有在所述基板旋转的同时向所述基板的表面及背面分别喷出液状体的喷嘴。2.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述旋转机构在将所述基板相对于水平面竖立为70°以上且90°以下的角度的状态下使所述基板旋转。3.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴形成为从所述基板的中央部侧向所述基板的外周部侧喷出所述液状体。4.根据权利要求3所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴从所述中央部侧向所述外周部侧折弯而形成。5.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴的前端的喷出面相对于液状体的喷出方向倾斜而形成。6.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴相对于所述旋转机构的旋转轴设置于下侧。7.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴在所述基板的表面侧和背面侧配置于相同位置。8.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述涂敷机构具有使所述喷嘴移动的移动机构。9.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 还具备喷嘴管理机构，所述喷嘴管理机构管理所述喷嘴的状态。10.根据权利要求9所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴管理机构具有清洗部，所述清洗部通过将所述喷嘴的前端浸溃于清洗液中而进行清洗。11.根据权利要求9所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴管理机构具有吸引所述喷嘴的前端的吸引部。12.根据权利要求9所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴管理机构具有接受从所述喷嘴预备性喷出的所述液状体的液体接受部。13.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 还具备杯部，所述杯部以包围所述基板的侧方的方式配置。14.根据权利要求13所述的涂敷装置，其中， 所述杯部具有收...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐保田勉，岛井太，佐藤晶彦，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：