涂敷装置制造方法及图纸

一种基板处理系统，具备：处理单元，其对基板进行涂敷处理；基板送入单元，其被供给收容有涂敷处理前的所述基板的送入用容器，且回收空的所述送入用容器；基板送出单元，其回收收容有所述涂敷处理后的所述基板的送出用容器，且被供给空的所述送出用容器；输送单元，其具有输送机构，该输送机构在所述处理单元内的装载位置和所述基板送入单元之间输送所述送入用容器，并在所述处理单元内的卸载位置和所述基板送出单元之间输送所述送出用容器。吸引基板并将其保持的吸引部设置为能够相对于在基部设置的臂部旋转，能够在利用保持部保持了基板的状态使其旋转的输送装置。利用喷嘴从以竖立的状态使其旋转的基板的两面喷出液状体地构成的涂敷装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及基板处理系统、输送装置及涂敷装置。
技术介绍
例如，在构成半导体基板、液晶面板的玻璃基板、构成硬盘的基板等各种基板上形成抗蚀剂膜等薄膜时，使基板旋转的同时，在该基板上形成涂敷膜的涂敷装置(例如，参照专利文献I)。涂敷装置例如作为涂敷单元，有时搭载于包括基板的送入动作、涂敷动作、送出动作的基板处理系统中。这样的基板处理系统按每个主要动作单元化的情况居多，例如，在上述例子中，有时搭载进行送入动作的基板送入单元、进行送出动作的基板送出单元。在贯穿多个单元之间输送基板的情况下，通常在每个单元配置输送装置，在各输送装置之间进行基板或收容该基板的盒等的转移。其次，在这样的涂敷装置搭载有使基板旋转的旋转机构。旋转机构能够以例如将基板吸附等而保持的状态使该基板旋转。在将基板保持于旋转机构时，例如，利用输送装置从外部向旋转机构输送基板的情况居多。作为这样的输送装置，例如，已知有在臂的前端设置有基板保持部的结构的输送装置。作为在该输送装置设置 的基板保持部，例如，已知有具有吸附基板的吸附部的结构。该输送装置在将基板输送至涂敷装置后，在与涂敷装置的旋转机构之间进行基板的转移。其次，在这样的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂敷装置，其中，具有：旋转机构，其以基板竖立的状态使所述基板旋转；涂敷机构，其具有在所述基板旋转的同时向所述基板的表面及背面分别喷出液状体的喷嘴。

【技术特征摘要】
2008.08.28 JP 2008-219562;2008.08.28 JP 2008-21951.一种涂敷装置，其中，具有: 旋转机构，其以基板竖立的状态使所述基板旋转； 涂敷机构，其具有在所述基板旋转的同时向所述基板的表面及背面分别喷出液状体的喷嘴。2.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述旋转机构在将所述基板相对于水平面竖立为70°以上且90°以下的角度的状态下使所述基板旋转。3.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴形成为从所述基板的中央部侧向所述基板的外周部侧喷出所述液状体。4.根据权利要求3所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴从所述中央部侧向所述外周部侧折弯而形成。5.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴的前端的喷出面相对于液状体的喷出方向倾斜而形成。6.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴相对于所述旋转机构的旋转轴设置于下侧。7.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴在所述基板的表面侧和背面侧配置于相同位置。8.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 所述涂敷机构具有使所述喷嘴移动的移动机构。9.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 还具备喷嘴管理机构，所述喷嘴管理机构管理所述喷嘴的状态。10.根据权利要求9所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴管理机构具有清洗部，所述清洗部通过将所述喷嘴的前端浸溃于清洗液中而进行清洗。11.根据权利要求9所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴管理机构具有吸引所述喷嘴的前端的吸引部。12.根据权利要求9所述的涂敷装置，其中， 所述喷嘴管理机构具有接受从所述喷嘴预备性喷出的所述液状体的液体接受部。13.根据权利要求1所述的涂敷装置，其中， 还具备杯部，所述杯部以包围所述基板的侧方的方式配置。14.根据权利要求13所述的涂敷装置，其中， 所述杯部具有收...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐保田勉，岛井太，佐藤晶彦，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：