一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽及其制备方法技术

一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽及其制备方法，它涉及一种氧化钽及其制备方法，它的制备方法为：将氧化钽和氧化钛的粉体经充分混合、压块，经100～300℃烘干，成为坯料，将坯料装入坩埚中，再将坩埚放置于发热体内、在发热体之外包围有上保温层、四周保温层和下保温层，在该四周保温层之外设置感应耦合线圈，感应耦合线圈通过电磁耦合感应，坩埚与发热体被动加热，使坩埚温度升高，使坩埚内坯料充分熔化；再采用梯度降温工艺让坩埚内坯料缓慢生长成晶体，然后关断电源，随炉降至室温，即可获得所需的晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽。它使氧化钽镀膜材料折射率提高，密度上升，质地由原来的陶瓷质地改变为晶体质地的材料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种氧化钽及其制备方法，具体涉及。
技术介绍
在固体材料的表面上镀膜，固体材料可为金属、玻璃、晶体、塑料等，能改变固定材料的性能，是正在飞速发展的技术产业。镀膜材料的种类很多，其中氧化物镀膜材料使用尤为广泛，而氧化钽(Ta2O5)镀膜材料，因高温价态稳定，在镀膜工艺中，易于操作，故深受青睐并广泛应用于光学制造业(包括镜头、窗口，激光和液晶屏等)；并大量应用于汽车车灯，车窗玻璃等汽车制造业；Low-E环保玻璃窗和玻璃幕墙等建筑业中也有所涉猎。氧化钽(Ta2O5)镀膜工艺的目的是为获得致密性好，折射率高，光洁度高的优质薄膜，对所用的氧化钽(Ta2O5)镀膜材料的密度、放气量、折射率要求尤为严格。传统的氧化钽(Ta2O5)镀膜材料采用的均是先粉体成形后再烧结收缩致密；从而形成陶瓷质地的材料的方法，所以获得的氧化钽(Ta2O5)镀膜材料存在下列三点技术缺陷/不足(I)只能具备固有折射率(2.1)；(2)低密度(只能达到理论密度的70 80% )，放气量大(容易造成喷溅，影响膜层表面光洁度)；(3)只能是陶瓷质地的材料。 而对于用氧化钽( Ta2O5)镀膜的用户来讲，要获得致本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽及其制备方法，其特征在于它的制备方法包括以下步骤：步骤一，晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽的坯料配制：选用重量比为60?95％氧化钽和5?40％氧化钛的粉体经充分混合、压块，经100～300℃烘干，成为坯料(21)。步骤二，将所述的坯料(21)装入感应耦合加热装置的坩埚(22)中，再将坩埚(22)放置于发热体(23)内、在发热体(23)之外包围有上保温层(24)、四周保温层(25)和下保温层(26)，在该四周保温层(25)之外设置感应耦合线圈(27)，该感应耦合线圈(27)与感应电源相连，整个感应耦合加热装置置于真空炉中。步骤三，感应耦合线圈(27)通过电磁耦合...

【技术特征摘要】
1.一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽及其制备方法，其特征在于它的制备方法包括以下步骤步骤一，晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽的坯料配制选用重量比为60-95%氧化钽和5-40%氧化钛的粉体经充分混合、压块，经100 300°C烘干，成为坯料(21)。步骤二，将所述的坯料(21)装入感应耦合加热装置的坩埚(22)中，再将坩埚(22)放置于发热体(23)内、在发热体(23)之外包围有上保温层(24)、四周保温层(25)和下保温层(26)，在该四周保温层(25)之外设置感应耦合线圈(27)，该感应耦...

【专利技术属性】
技术研发人员：张健，
申请(专利权)人：上海晶炼新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：