电解工艺在ITO膜洗净中的应用制造技术

本发明专利技术涉及电解工艺在ITO膜洗净中的应用，将部品置于硫酸电解液中，通过电解将ITO膜洗净，其中，所述部品为表面覆有ITO膜的铝合金材质的部品。在ITO膜溶解过程中，铝合金作为阳极在硫酸电解液中形成致密氧化膜对部品母材进行保护，提高部品循环使用的寿命，且可对贵金属成分进行回收，避免传统化学回收过程中的流失。

【技术实现步骤摘要】
电解工艺在ITO膜洗净中的应用
本专利技术涉及ITO膜，特别涉及一种电解工艺在ITO膜洗净中的应用。
技术介绍
氧化铟锡(ITO，或者掺锡氧化铟)是一种铟（III族）氧化物(In2O3)和锡（IV族）氧化物(SnO2)的混合物，通常质量比为90%In2O3，10%SnO2。通常用电子束蒸发、物理气相沉积、或者一些溅射沉积技术的方法沉积到表面获得氧化铟锡膜。对于ITO膜的洗净，通常采用化学清洗。目前常规的化学清洗一般是将部品（或称为配件）直接浸泡在酸液中清洗，清洗过程中酸液对部品母材本身有相当量的腐蚀损耗，清洗达到一定数量，对药水进行回收成本相对较高。另外一种方式是采用超高压水刀方式去膜，会导致大量的可回收ITO流失。因此，本领域需要开发一种新型的ITO膜洗净方法，避免对部品的腐蚀和贵金属成分的流失。
技术实现思路
本专利技术的目的就是提供一种新型的ITO膜洗净方法，将电化学工艺结合到常规的ITO膜化学洗净过程中，以节省成本并提高部品寿命。本专利技术提供的ITO膜洗净方法，包括将部品置于硫酸电解液中，通过电解将ITO膜洗净，其中，所述部品为表面覆有ITO膜的铝合金材质的部品。根据本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种ITO膜洗净方法，其特征在于，所述方法包括将部品置于硫酸电解液中，通过电解将ITO膜洗净，其中，所述部品为表面覆有ITO膜的铝合金材质的部品。

【技术特征摘要】
1.一种ITO膜洗净方法，其特征在于，所述方法包括将部品置于硫酸电解液中，通过电解将ITO膜洗净，其中，所述部品为表面覆有ITO膜的铝合金材质的部品；所述硫酸电解液为硫酸水溶液，浓度范围120g/L～250g/L，电解作业温度范围为15～35℃；所述电解以惰性电极为阴极，以部品为阳极，阴极与阳极的面积比为1:1～1:2，电压为5～17V；所述惰性电极为石墨、铅、或钛。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈煜，贺贤汉，吴小杰，郑亮，
申请(专利权)人：上海申和热磁电子有限公司，
类型：发明
国别省市：