彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板技术

本发明专利技术提供了一种彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板。该制造方法包括：在设置有黑矩阵层的基体上依序涂布第二光阻、第三光阻和第四光阻，并分别对应进行曝光显影，以形成RGB色阻层，以及在黑矩阵层上形成至少一凸柱，其中，凸柱由三次曝光显影中至少一次形成；形成公共电极层并覆盖RGB色阻层，且凸柱高出公共电极层的顶面。本发明专利技术能够减少所需黄光制程的数目，简化彩色滤光片基板和液晶面板的制程，降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
，具体而言涉及一种彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板。
技术介绍
当前，液晶显示装置一般采用VA (Vertical Alignment,垂直调整)型广视角技术的面板，VA包括PVA (Patterned Vertical Alignment,图像垂直调整技术)和MVA(Mult1-domain Vertical Alignment,多象限垂直配向技术)两种。两者的差异主要是PVA技术使用透明的氧化铟锡(Indium Tin Oxide, ITO)电极层取代MVA技术中的液晶层凸起物，由于透明ITO电极层可以最大限度减少背光源的浪费，从而不仅可以取代后者使液晶面板具有开口率高、亮度比大等的优点，而且采用PVA技术的液晶面板的综合素质也远远超过采用MVA技术的液晶面板，因此PVA技术已成为VA面板技术中的主流。现有技术中一般需要利用五道黄光制程来完成彩色滤光片基板的制作，即BM(Black Matrix,黑矩阵)制程、R (Red)制程、G (Green)制程、B (Blue)制程和 PS (PhotoSpacer,间隙粒子)制程，其中，PS制程中形成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光片基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：提供基体；在所述基体上涂布第一光阻，并对所述第一光阻进行曝光显影，以形成围设多个间隔区域的黑矩阵层；在所述基体上依序涂布第二光阻、第三光阻和第四光阻，并分别对应进行曝光显影，以在所述间隔区域中形成RGB色阻层，以及在所述黑矩阵层上形成至少一凸柱，其中，所述凸柱由三次所述曝光显影中至少一次形成；在所述基体上形成公共电极层，所述公共电极层覆盖所述RGB色阻层，且所述凸柱高出所述公共电极层的顶面。

【技术特征摘要】
1.一种彩色滤光片基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括 提供基体； 在所述基体上涂布第一光阻，并对所述第一光阻进行曝光显影，以形成围设多个间隔区域的黑矩阵层； 在所述基体上依序涂布第二光阻、第三光阻和第四光阻，并分别对应进行曝光显影，以在所述间隔区域中形成RGB色阻层，以及在所述黑矩阵层上形成至少一凸柱，其中，所述凸柱由三次所述曝光显影中至少一次形成； 在所述基体上形成公共电极层，所述公共电极层覆盖所述RGB色阻层，且所述凸柱高出所述公共电极层的顶面。2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所述基体上依序涂布第二光阻、第三光阻和第四光阻，并分别对应进行曝光显影，以在所述间隔区域中形成RGB色阻层，以及在所述黑矩阵层上形成至少一凸柱的步骤包括 在所述基体上涂布第二光阻，并对所述第二光阻进行曝光显影，以在所述基体的所述间隔区域形成第一红色色阻层，以及在所述黑矩阵层上形成至少一第二红色色阻层； 在所述基体上涂布第三光阻，并对所述第三光阻进行曝光显影，以在所述间隔区域形成第一绿色色阻层，以及在所述第二红色色阻层上形成第二绿色色阻层； 在所述基体上涂布第四光阻，并对所述第四光阻进行曝光显影，以在所述间隔区域形成第一蓝色色阻层，以及在所述第二绿色色阻层上形成第二蓝色色阻层，其中依次堆叠的所述第二红色色阻层、所述第二绿色色阻层、所述第二蓝色色阻层形成所述凸柱，所述第一红色色阻层、所述第一绿色色阻层、所述第一蓝色色阻层分别位于不同的所述间隔区域内。3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所述基体上形成公共电极层，所述公共电极层覆盖所述RGB色阻层，且所述凸柱高出所述公共电极层的顶面设置的步骤包括 在所述基体上涂布公共电极层； 对所述公共电极层进行图案化...

【专利技术属性】
技术研发人员：伍浚铭，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：